[发明专利]滤色片黑色矩阵光阻组合物及用于该组合物的碳黑分散体组合物无效
| 申请号： | 200380106777.6 | 申请日： | 2003-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1729429A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | 镰田博稔;上条正直;大西美奈 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于滤色片黑色矩阵光阻的碳黑分散体组合物，其中包含(A)具有特定物理性能的碳黑(平均初始粒径，表面羧基浓度)，(B)具有氨基和/或其季铵盐的共聚物和(C)有机溶剂；并提供了包含上述分散体组合物、(D)具有羧基的粘结剂用树脂、(E)烯键式不饱和单体、(F)光致聚合引发剂和(G)特定的多官能硫醇化合物的滤色片黑色矩阵光阻组合物，该滤色片黑色矩阵光阻组合物可容易地通过光刻法形成具有高光屏蔽性能的薄膜或图案，具有优异的储存稳定性并显示出充分的灵敏度和分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 滤色片 黑色 矩阵 组合 用于 碳黑 散体 | ||
【主权项】：
1.一种用于滤色片黑色矩阵光阻的碳黑分散体组合物，其包含(A)平均初始粒径为20-60nm、DBP吸油能力为30-100ml/100g、BET法测定的比表面积为30-150m2/g和羧基在颗粒表面的浓度为0.2-1.0μmol/m2的碳黑，(B)具有氨基和/或其季铵盐的共聚物和(C)有机溶剂。
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