[实用新型]630nm大功率半导体激光系统及使用该系统的激光治疗仪无效

专利信息
申请号: 200320123066.7 申请日: 2003-12-31
公开(公告)号: CN2676949Y 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 朱文勇;严迪化 申请(专利权)人: 上海仁光光电科技有限公司
主分类号: A61N5/067 分类号: A61N5/067;H01S5/00;G02F1/35
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 陈亮
地址: 200233上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种输出波长为630nm的、大功率半导体激光系统,包括:半导体激光发射模块,由多个半导体激光管输出合成;激光电源装置;系统控制装置,控制系统工作;光学控制/分配装置,控制整个系统的输出。一种采用如上所述的630nm大功率半导体激光系统的激光治疗仪,其特点是,除上述结构外,还包括用户操作所需的输入/显示装置;完整的系统和模块监测/报警装置;内置的光功率测量装置等。由于采用了上述技术方案,本实用新型提供了一种波长为630nm、输出功率达2W的大功率半导体激光系统以及使用该系统的激光治疗仪,可满足光动力治疗临床实用的要求。
搜索关键词: 630 nm 大功率 半导体 激光 系统 使用 激光治疗
【主权项】:
1.一种630nm大功率半导体激光系统,包括半导体激光发射模块,由多个半导体激光管芯,每个管芯激光输出分别耦合至单根小孔径光纤,再有多根小孔径光纤合成形成光纤束输出;激光电源装置,提供所述半导体激光发射模块所需工作电源;系统控制装置,与所述电源装置和所述半导体激光发射装置相连,控制所述系统工作;其特征在于,还包括光学控制/分配装置,与所述半导体激光发射装置和所述系统控制装置相连,控制整个系统的输出。
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