[发明专利]抛光液组合物有效
| 申请号： | 200310124640.5 | 申请日： | 2003-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1513931A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 末永宪一;大岛良晓;萩原敏也 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘元金;庞立志 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抛光液组合物，其为含有水和硅石粒子的、用于存储器硬盘所用基板的抛光液组合物，对通过透射式电子显微镜(TEM)观察前述硅石粒子测定得到的该硅石粒子的粒径(nm)从小粒径侧开始的累积体积频率(％)进行绘图得到的该硅石粒子的粒径对累积体积频率图中，粒径40～100nm范围内的累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(1)：V≥0.5×R+40(1)。本发明的抛光液组合物特别适用于存储器硬盘所用基板等精密元件用基板的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抛光液组合物，其为含有水和硅石粒子的、用于存储器硬盘所用基板的抛光液组合物，对通过透射式电子显微镜(TEM)观察前述硅石粒子测定得到的该硅石粒子的粒径(nm)从小粒径侧开始的累积体积频率(％)进行绘图得到的该硅石粒子的粒径对累积体积频率图中，粒径40～100nm范围内的累积体积频率(V)相对于粒径(R)满足下式(1)： V≥0.5×R+40 (1)。
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