[发明专利]多齿配位体、多核金属络合物、金属络合物链、金属络合物聚集结构物及其制造方法无效
| 申请号： | 03806087.6 | 申请日： | 2003-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1642905A | 公开（公告）日： | 2005-07-20 |
| 发明（设计）人： | 真锅敏夫;武井文雄 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | C07C237/40 | 分类号： | C07C237/40;C07C251/24;H01L51/30;//C07F15/00;C07F15/04;C07D213/16;C07D213/22;C07D487/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供可以应用于信息通信领域中演算装置、显示器、存储器等各种机器的微细化、精密化的金属络合物聚集结构物、可以成为该金属络合物聚集结构物优选原料物质的多齿配位体等。本发明涉及多齿配位体，其含有4个亚胺、酰胺和氨基的至少任一种的含氮基团，在同一平面上具有至少2个以该4个含氮基团中的各氮为配位原子而在同一平面上形成的4齿的平面配位部位。此外，本发明涉及金属络合物聚集结构物，其特征在于：使金属络合物聚集形成的金属络合物链与含有显示给体性和受体性的至少一种性质的分子的导电性配线交叉，从而使上述金属络合物和显示上述给体性和受体性的至少一种性质的分子配置在可以相互作用的位置上，具有二维和三维的任何一种结构。 | ||
| 搜索关键词： | 多齿配位体 多核 金属 络合物 聚集 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.多齿配位体，其特征在于：含有4个亚胺、酰胺和氨基的至少一种的含氮基团，在同一平面上具有至少2个以该4个含氮基团中的各氮为配位原子而在同一平面上形成的4齿的平面配位部位。
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