[发明专利]聚硅氧烷、其生产方法、及辐射敏感树脂组合物

摘要

一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R¹为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R²为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。

主权项

1.一种聚硅氧烷，有下式(1)所示结构单元(I)和/或结构单元(II)，有可用酸解离的酸解离基团，通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯折合重均分子量在500-1,000,000的范围内，其中R1代表被至少一个选自氟原子和有1-10个碳原子的氟烷基的基团取代的有6-20个碳原子的一价芳基或被至少一个选自氟原子和有1-10个碳原子的氟烷基的基团取代的有3-15个碳原子的一价脂环基，R2代表被至少一个选自氟原子和有1-10个碳原子的氟烷基的基团取代的有6-20个碳原子的一价芳基、被至少一个选自氟原子和有1-10个碳原子的氟烷基的基团取代的有3-15个碳原子的一价脂环基、氢原子、卤原子、有1-20个碳原子的一价烃基、有1-20个碳原子的卤烷基、或伯、仲或叔氨基。