[发明专利]化学机械研磨装置的晶片载具及其研磨方法有效
申请号: | 02147325.0 | 申请日: | 2002-10-18 |
公开(公告)号: | CN1464534A | 公开(公告)日: | 2003-12-31 |
发明(设计)人: | 许嘉麟;余志展;许仕勋;陈学忠 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/68;B24B1/00;B24B7/22 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 台湾省新竹科 *** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种化学机械研磨装置的晶片载具及其研磨方法。本发明的晶片载具包括一第一板件、一第二板件及一弹性膜件。第一板件具有多个凸件形成于其一底部表面及第二板件具有多个通孔贯穿于其中。每一凸件可与一通孔相卡合,以使第一卡件与第二卡件可分离地相结合。弹性膜件是装设于第二板件下方并与其接触。弹性膜件与接触第二板件的表面相对的一表面提供一晶片承载表面。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 晶片 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械研磨装置的晶片载具,其特征在于,包括:一第一板件,该第一板件的一表面具有多个凸件;一第二板件,是位于该第一板件下方,该第二板件具有多个通孔贯穿于其中,每一该通孔是与一该凸件相卡合,以使该第一板件及该第二板件可分离地结合;及一弹性膜件,是装设于该第二板件的下方,该弹性膜件的一第一表面接触于该第二板件的一表面,及该弹性膜件的相对于该第一表面的一第二表面是提供一晶片承载表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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