[发明专利]正片型感光性抗蚀剂组合物及其用途无效
| 申请号： | 02141379.7 | 申请日： | 2002-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1397841A | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 田原修二;柴原立子;森田守次;山本喜博;小野一良 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京银龙专利代理有限公司 | 代理人： | 阎娬斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，能够使用廉价的光酸发生剂，用近紫外曝光和弱碱显像的方法显示出高分辨度，也能够用于有通孔的基板，通过用近紫外光曝光并用弱碱显像液显像可以分辨率良好地进行微细图形加工，该正片型感光性抗蚀剂组合物的特征是以含有有至少一种二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。 | ||
| 搜索关键词： | 正片 感光性 抗蚀剂 组合 及其 用途 | ||
【主权项】：
1.一种正片型感光性抗蚀剂组合物，其特征在于，含有具有至少一个二氯乙酰基的化合物作为酸发生剂。
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