[发明专利]在金刚石对顶砧上集成金属电极的方法无效
| 申请号： | 02132456.5 | 申请日： | 2002-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN1396801A | 公开（公告）日： | 2003-02-12 |
| 发明（设计）人： | 韩永昊;高春晓;刘洪武;潘跃武;王成新;骆继峰;申彩霞;邹广田 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;C23C14/14;C23C14/34;G01N27/00 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 王恩远 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明属在高压实验装置——金刚石对顶砧上集成金属电极的方法。经清洗(1)、溅射电极材料(2)、涂胶(3)、光刻(4)、腐蚀金属(5)、去胶(6)以及引线工艺过程制得钨或铬或钛的金属电极。电极材料(2)厚度为1000～2500A，溅射电极材料过程中衬底温度保持在240～400℃。光刻(4)过程是保留需要集成电极部位的光刻胶(9)，而其余的地方光刻胶(9)被去掉。腐蚀金属(5)是指用光刻腐蚀剂去掉未被光刻胶(9)掩盖的电极材料。本发明能保证电极在砧面上有足够的附着力。电极厚度小，可消除由应力产生的电极崩裂现象。可避免高温对金刚石的损伤，延长使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚石 顶砧上 集成 金属电极 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在金刚石对顶砧上集成金属电极的方法，包括清洗(1)、溅射电极材料(2)、涂胶(3)、光刻(4)、去胶(6)以及引线的工艺过程，其特征是，在对金刚石对顶砧砧面的清洁处理后先进行溅射电极材料(2)，再进行涂胶(3)、光刻(4)、腐蚀金属(5)、去胶(6)以及引线；所说的溅射电极材料(2)是在金刚石对顶砧上溅射厚度为1000～2500的钨或铬或钛的金属薄膜(8)，溅射过程中衬底温度保持在240～400℃；所说的光刻(4)过程是涂胶(3)后经曝光显影，保留需要集成电极部位的光刻胶(9)，而其余的地方光刻胶(9)被去掉；所说的腐蚀金属(5)是指用光刻腐蚀剂去掉未被光刻胶(9)掩盖的电极材料；所说的去胶(6)是去掉金属电极上面的起掩盖作用的光刻胶(9)，以露出金属电极；所说的引线是将金属丝粘结在金刚石对顶砧的侧面上。
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