[发明专利]等离子体沉积镀膜系统的废气过滤装置无效
| 申请号： | 02129132.2 | 申请日： | 2002-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN1473953A | 公开（公告）日： | 2004-02-11 |
| 发明（设计）人： | 吴定根;郑永万;尹东植 | 申请（专利权）人： | 乐金电子(天津)电器有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;B01D36/02 |
| 代理公司： | 天津才智专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甄洪庆 |
| 地址： | 30040*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种等离子体沉积镀膜系统的废气过滤装置包括：一级过滤装置和二级过滤装置；所述的一级过滤装置的作用是过滤废气中颗粒较大的异物，所述的二级过滤装置的作用是过滤废气中颗粒特别细小的异物。本发明的有益效果是：结构简单，对废气进行二级过滤，在一级过滤装置中，颗粒较大的异物已被过滤掉，进入二级过滤装置进行二级过滤的废气中只混有颗粒特别细小的异物，因此有效地防止了颗粒较大的异物对滤芯的阻塞，延长了滤芯的使用寿命，提高了等离子体沉积镀膜系统的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 沉积 镀膜 系统 废气 过滤 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体沉积镀膜系统的废气过滤装置，其特征在于：包括一级过滤装置(110)和二级过滤装置(220)；所述的一级过滤装置(110)的作用是过滤废气中颗粒较大的异物，所述的二级过滤装置(220)的作用是过滤废气中颗粒特别细小的异物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金电子(天津)电器有限公司，未经乐金电子(天津)电器有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02129132.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
