[发明专利]避免具间隙壁的接触窗中顶部微距变大的方法

摘要

本发明涉及一种避免具间隙壁的接触窗中顶部微距变大的方法。首先，在基底上依序形成一第一介电层、一蚀刻停止层及一光阻图案层。接着，以光阻图案层作为罩幕来蚀刻此蚀刻停止层及第一介电层以形成一接触窗。然后，在蚀刻停止层上及接触窗表面顺应性形成一第二介电层，并接着使用氧气、氟碳气体及氧化碳气体作为蚀刻反应气体来非等向性蚀刻第二介电层，以在接触窗侧壁形成一间隙壁。其中氧气与氟碳气体的流量分别在2－6sccm及4－8sccm的范围。由于蚀刻停止层为氮氧化硅层，且上述蚀刻反应气体对其蚀刻率低，可避免顶部微距变大而提高组件可靠度。

主权项

1.一种形成具间隙壁的接触窗的方法，其特征在于，包括下列步骤：提供一基底，该基底表面依序覆盖有一第一介电层、一蚀刻停止层及一光阻图案层；以该光阻图案层作为罩幕来蚀刻该蚀刻停止层及该第一介电层，以形成一接触窗并露出该基底表面；在该蚀刻停止层上及该接触窗表面顺应性形成一第二介电层；以及非等向性蚀刻该第二介电层，以在该接触窗侧壁形成一间隙壁。