[发明专利]组合的掩模与使用该掩模制造有机电致发光装置的方法和设备有效
| 申请号： | 02105638.2 | 申请日： | 2002-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1378408A | 公开（公告）日： | 2002-11-06 |
| 发明（设计）人： | 藤森茂雄;北村义之;金森浩充;池田武史;冈哲雄 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;C23C14/04;G09F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种组合掩模,包括多个沉积掩模,每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成;和其上沉积掩模被排列的具有多个开口的基板被提供。沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上,和用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。另外,提供了用于制造组合掩模的方法和设备,用于使用组合掩模制造有机EL装置的方法和设备,和有机EL装置。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 使用 制造 有机 电致发光 装置 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种组合掩模，包括：多个沉积掩模，每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成；和在具有多个开口的基板上沉积掩模被排列，其中沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上，和其中用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。
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