[发明专利]抛光组合物及使用它的抛光方法无效
| 申请号： | 02103380.3 | 申请日： | 2002-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1369530A | 公开（公告）日： | 2002-09-18 |
| 发明（设计）人： | 浅野宏;酒井谦儿;伊奈克芳 | 申请（专利权）人： | 不二见株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种抛光组合物,它含有下述组分(a)－(g)(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料;(b)脂族羧酸;(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物;(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α－丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物;(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂;(f)过氧化氢和(g)水。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，它含有下述组分(a)-(g)：(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料；(b)脂族羧酸；(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物；(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α-丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物；(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；(f)过氧化氢；(g)水。
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