[发明专利]光刻胶剥离剂组合物有效
| 申请号： | 01808573.3 | 申请日： | 2001-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1426544A | 公开（公告）日： | 2003-06-25 |
| 发明（设计）人： | 尹锡壹;朴英雄;吴昌一;李相大;柳终顺 | 申请（专利权）人： | 东进瑟弥侃株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻胶剥离剂组合物，它在诸如大规模集成电路(LSI)和超大规模集成电路(VLSI)等半导体器件的制造工艺中用于剥离光刻胶。光刻胶剥离剂组合物包含3－10wt％的有机胺化合物，30－60wt％选自DMAc、DMF、DMI、NMP等的溶剂，30－60wt％的水，1－10wt％儿茶酚，间苯二酚，或者它们的混合物，以及1－10wt％的C4－6的直链的多元醇。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 剥离 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶剥离剂组合物，它包含：a)3-10wt％的有机胺化合物，b)30-60wt％选自N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)、N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(DMI)，和N-甲基吡咯烷酮(NMP)的溶剂，c)1-10wt％的儿茶酚、间苯二酚或者它们的混合物，和e)1-10wt％的C4-6的直链多元醇。
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