[发明专利]制备难溶薄涂层的方法

摘要

通过溅射、蒸镀、浴液沉积或金属有机化合物气相沉积(MOCVD),可以制备稳定的表面涂层。然而,这些方法不是总能制得可到达内表面的均匀涂层。本发明为了在底材(S)上制备陶瓷或氧化物涂层(CL/OL),首先在底材上施加合适的起始物料(P)(I),然后干燥(II),所得起始物料涂层(PLD)暴露(III)于潮湿的反应气体(RG),使其转化为相应的氢氧化物涂层或络合物涂层(HL),然后加热形成陶瓷涂层或氧化物涂层(CL/OL)。在制备其它的硫属化物涂层时,为了得到较高的原料转化率,所述的涂层还暴露于另外的、含硫属化氢的反应气体。金属涂层可以用还原性的反应气体制得。本发明的方法可以用于保护或改进表面。

主权项

1、一种在任意形态的底材上制备难溶薄涂层的方法，它包括下列步骤，这些步骤可根据所需涂层的厚度循环执行，以制备陶瓷涂层或氧化物涂层(CL/OL)：(I)将至少一种适当的起始物料(P)涂覆到底材表面(S)上，形成起始物料层；(II)在惰性气流(GS)中或通过蒸发使所形成的起始物料涂层(PL)干燥；(III)在干燥后的起始物料涂层(PLD)中通入潮湿的反应气体(RG)，使其转化成相应的氢氧化物涂层或络合物涂层(HL)；(IV)热处理所形成的氢氧化物涂层或络合物涂层(HL)，使其形成最终涂层(CL/OL)；接着如果有未转化的起始物料成分或不需要的副产物(V)进行洗涤分离，然后干燥。