[实用新型]中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置无效

专利信息
申请号: 00248946.5 申请日: 2000-08-18
公开(公告)号: CN2443972Y 公开(公告)日: 2001-08-22
发明(设计)人: 许生;高文波;周海军;徐龙海;范垂祯 申请(专利权)人: 深圳威士达真空系统工程有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 深圳市专利服务中心 代理人: 王雄杰
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置,在真空室内两靶的对称轴线上置有管道两边呈对称开有若干通气出孔的反应气体布气管,反应气体布气管置于具折角的挡板折角内,接有压电阀的进气管与反应气体布气管在两只靶的几何对称中心相通,两根工作气体布气管置于两靶的外侧轴线上,工作气体布气管上均匀开有布气孔。本实用新型布气均匀,能有效抑制靶的中毒现象,能满足镀制SiO2膜层导电玻璃的高质量要求。
搜索关键词: 中频 反应 溅射 镀膜 设备 气体 供气 装置
【主权项】:
1、一种中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置,包括真空室、进气管和压电阀,在真空室内置有靶、反应气体布气管和工作气体布气管,接有压电阀的进气管与反应气体布气管相通,其特征在于:在真空室内两靶的对称轴线上置有管道两边呈对称开有若干通气出孔的气体布气管,两根工作气体布气管置于两靶的外侧轴线上,工作气体布气管上均匀开有布气孔。
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