[实用新型]中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置无效
| 申请号： | 00248946.5 | 申请日： | 2000-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN2443972Y | 公开（公告）日： | 2001-08-22 |
| 发明（设计）人： | 许生;高文波;周海军;徐龙海;范垂祯 | 申请（专利权）人： | 深圳威士达真空系统工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市专利服务中心 | 代理人： | 王雄杰 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 中频 反应 溅射 镀膜 设备 气体 供气 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置，包括真空室、进气管和压电阀，在真空室内置有靶、反应气体布气管和工作气体布气管，接有压电阀的进气管与反应气体布气管相通，其特征在于：在真空室内两靶的对称轴线上置有管道两边呈对称开有若干通气出孔的气体布气管，两根工作气体布气管置于两靶的外侧轴线上，工作气体布气管上均匀开有布气孔。
2、根据权利要求1所述中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置，其特征在于：真空室内有具折角的挡板，反应气体布气管置于挡板的折角内。
3、根据权利要求1所述中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置，其特征在于：进气管与反应气体布气管在两只靶的几何对称中心相通。
4、根据权利要求1所述中频反应溅射镀膜设备中反应气体的供气装置，其特征在于：压电阀置于贴近真空室外壁处。
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