[发明专利]单块陶瓷电子元件及其制造方法和陶瓷糊浆及其制造方法有效
申请号: | 00136381.6 | 申请日: | 2000-12-13 |
公开(公告)号: | CN1300089A | 公开(公告)日: | 2001-06-20 |
发明(设计)人: | 宫崎信;田中觉 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H01G4/30 | 分类号: | H01G4/30;H01G4/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 单块陶瓷电子元件的制造方法,包括提供陶瓷淤浆、导电胶和陶瓷糊浆;形成多个复合结构,各自包括陶瓷淤浆形成的陶瓷坯料片,导电胶在该片材表面上形成的阶梯状内线路元件薄膜,用于补偿该阶梯状区域造成的空隙的陶瓷坯料层,该层是将陶瓷糊浆涂在坯料片表面上无元件薄膜区域制得的,从而基本补偿所述空隙;将复合结构叠合成叠合物坯料;以及烧制该叠合物坯料。还提供该方法制得的单块陶瓷电子元件,陶瓷糊浆和陶瓷糊浆的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷 电子元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种单块陶瓷电子元件的制造方法,它包括下列步骤:提供陶瓷淤浆、导电胶和陶瓷糊浆;形成多个复合结构,各个结构包括由陶瓷淤浆成形制成的陶瓷坯料片,由导电胶局部施涂在陶瓷坯料片主表面上形成的内线路元件薄膜,从而造成阶梯状区域,以及用于补偿该阶梯状区域造成的空隙的陶瓷坯料层,所述陶瓷坯料层是将陶瓷糊浆施涂在陶瓷坯料片主表面上未形成元件薄膜的区域而制得的,从而基本补偿所述空隙;将复合结构叠合在一起形成叠合物坯料;以及烧制该叠合物坯料,其中用于形成陶瓷糊浆的方法包括:第一分散步骤,该步骤对含有陶瓷粉末和第一有机溶剂的第一混合物进行初次分散;第二分散步骤,该步骤对含有有机粘合剂和经第一分散步骤处理的第一混合物的第二混合物进行二次分散;将相对蒸发速率低于第一有机溶剂的相对蒸发速率的第二有机溶剂加至第一混合物和/或第二混合物的步骤;以及通过加热第二混合物从该混合物中选择性地除去第一有机溶剂的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00136381.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:生产乙酸的方法
- 下一篇:利用从分支预测得出的未来分支路径信息进行预取