[发明专利]记录介质、记录装置以及记录方法无效

专利信息
申请号: 00135309.8 申请日: 2000-09-29
公开(公告)号: CN1308327A 公开(公告)日: 2001-08-15
发明(设计)人: 内藤胜之;稗田泰之 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B11/00 分类号: G11B11/00;B32B33/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 段承恩
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种具有多个电荷积聚区和光电导区的记录介质,其中的每个电荷积聚区含能够积聚电荷的第一种材料,其中的光电导区含由于吸收光而使导电率增加的第二种材料。提供了一种包括这种记录介质的记录装置以及在这种记录介质上记录信息的记录方法。在本发明中,通过用光辐照光电导区,并且通过有光辐照光的电导区的那部分将电荷注入所述电荷积聚区,而将信息记录在所述记录介质上。
搜索关键词: 记录 介质 装置 以及 方法
【主权项】:
1、一种记录介质,包括:基底;位于基底上并具有多个电荷积聚区的记录层,其中的每个电荷积聚区含能够积聚电荷的第一种材料;以及在记录层上形成的并具有光电导区的光电导层,其中光电导区含由于吸收光而使导电率增加的第二种材料。
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