[发明专利]全返混液膜反应器及其在制备超细阴离子层状材料中的应用无效
| 申请号： | 00132145.5 | 申请日： | 2000-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN1142117C | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 段雪;矫庆泽;李峰;何静;郭灿雄 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C04B35/624 | 分类号： | C04B35/624 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩飘扬 |
| 地址： | 100029北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及全返混液膜反应器及其在制备超细阴离子层状材料中的应用。本发明从共沉淀法制备阴离子层状材料的基本工艺出发，利用晶体化学原理，设计了一种全返混液膜反应器，采用强制微观混合技术，两种液体反应物在反应器转子与定子之间的缝隙处迅速充分混合接触，反应后物质迅速脱离反应器，实现粒子的同时成核、同步生长，从而使材料具有粒子尺寸小和分布均匀的特性，粒子的尺寸可以达到10-100nm。 | ||
| 搜索关键词： | 全返混液膜 反应器 及其 制备 阴离子 层状 材料 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.一种用于液-液两相共沉淀反应的全返混液膜反应器，由一封闭的机壳作为定子，定子内有一可旋转的锥体状转子，转子的外表面和定子的内表面分别带有凹槽，转子横截面积小的一端带有液体分布器，定子上设有原料进液口和出料口，进液口位于转子横截面积小的一端，出料口位于转子横截面积大的一端，其特征是：定子内表面与转子外表面之间留有一个可调节大小的缝隙，缝隙尺寸可通过转子与定子相对位置的变化在1-20微米之间调变。
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