[发明专利]全返混液膜反应器及其在制备超细阴离子层状材料中的应用无效
| 申请号： | 00132145.5 | 申请日： | 2000-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN1142117C | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 段雪;矫庆泽;李峰;何静;郭灿雄 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C04B35/624 | 分类号： | C04B35/624 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩飘扬 |
| 地址： | 100029北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 全返混液膜 反应器 及其 制备 阴离子 层状 材料 中的 应用 | ||
【说明书】：
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