[发明专利]薄型集成电阻和电容和电感组件及其制作方法无效

专利信息
申请号: 00131872.1 申请日: 2000-09-22
公开(公告)号: CN1303229A 公开(公告)日: 2001-07-11
发明(设计)人: 理查德·W·卡彭特 申请(专利权)人: 莫顿国际公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/16;H01L23/64
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 形成薄型电路结构,包括导电电路轨迹、集总电感和集总电阻。第一层叠结构包括导电金属箔,其上有一层可嵌入绝缘材料。第二层叠结构包括导电金属箔,其一侧有一层电阻材料,电阻材料层的厚度薄于可嵌入绝缘材料层。电阻材料层电路化形成电阻块,两个结构被叠层到一起,使电阻块嵌入绝缘材料层中。金属箔层之一被电路化,来提供电路轨迹、可选电感绕组和电容极板。嵌入绝缘叠层中的金属箔为进一步加工结构提供支持。另一金属箔然后电路化,来提供电路轨迹等。一侧的轨迹与电阻材料块连接来提供电阻。
搜索关键词: 集成 电阻 电容 电感 组件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种形成包括电路轨迹、集总电阻和集总电容的电子电路的方法,该方法包括:提供第一叠层结构,该结构包括第一导电金属箔和一层被叠层其上的可嵌入的绝缘材料;提供第二叠层结构,该结构包括其一侧具有一层电阻材料的第二导电金属箔,所述电阻材料层具有比所述可嵌入绝缘材料层薄的厚度;将所述电阻材料层电路化,在第二金属箔上制造离散的电阻材料块;叠层所述第一和第二结构,使所述电阻材料块嵌入到所述可嵌入绝缘材料层中;将所述金属箔中的一个或另一个电路化,来形成电容极板、电路轨迹、可选电感绕组,和在第二金属箔的电阻连接情况下;将电路化的金属箔嵌入叠层绝缘材料中,作为下一步加工的支持结构;将所述金属箔中的另一个电路化,来形成电容极板、电路轨迹、可选电感绕组,和在第二金属箔的电阻连接情况下。
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