[发明专利]一种化学钢化玻璃磁盘基板制作方法有效

专利信息
申请号: 00131156.5 申请日: 2000-11-16
公开(公告)号: CN1103326C 公开(公告)日: 2003-03-19
发明(设计)人: 曹幼鸣;詹祖盛;孙显新 申请(专利权)人: 湖北新华光信息材料股份有限公司
主分类号: C03C3/078 分类号: C03C3/078;C03C3/087;C03C17/22;G11B5/73
代理公司: 襄樊崇科专利事务所 代理人: 严崇姚
地址: 441003*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种化学钢化玻璃磁盘基板制作方法。主要是解决现有方法中盐浴使用寿命不长的问题。其特征是将钠钙硅或钠铝硅系统薄板玻璃加工成磁盘基板;清洁后加热至360~460℃,Al2O31~4份、K2SiO31~8份和硅薄土2~5份组成的抑制剂按盐浴量的0.5~3%加入盐浴槽中,加热至380~450℃后对基板进行处理;冷却后对其进行超精细抛光,最后清洁处理。本发明可使盐浴使用寿命由10个月延长到16个月以上,并可彻底清除残存在基板上的盐浴颗粒。
搜索关键词: 一种 化学 钢化玻璃 磁盘 制作方法
【主权项】:
1、一种化学钢化玻璃磁盘基板制作方法,其特征在于它包括以下工艺步骤:①、将至少含Na2O5~20%、CaO5~20%、和SiO250~70%的钠钙硅系统或至少含Na2O5~20%、Al2O35~15%和SiO260~70%的钠铝硅系统薄板玻璃经切割、研磨、倒角和抛光加工成预定的磁盘基板尺寸,每种玻璃的各个组分之和为100%;②、将尺寸合格的基板进行清洗、干燥:③、将干燥好的基板以500~1000℃/小时的速率加热升温至360~460℃;④、将由Al2O31~4份(重量份)、K2SiO31~8份和硅藻土2~5份组成的抑制剂按盐浴量的0.5~3%(重量百分比)加入盐浴槽中,启动搅拌器,加热使盐浴温度为380~450℃,再将步骤3中预热后的基板放入盐浴槽中进行处理;⑤、把离子交换后的基板以400~800℃/小时的速率先冷却到200℃,再直接投入水中快速冷却;⑥、对基板表面进行短时间超精细抛光,最后进行清洗、干燥。
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