专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用过饱和清洁溶液进行强超声波清洁-CN200480020523.7无效
  • C·S·弗兰克林;Y·吴;B·弗雷泽 - 艾奎昂技术股份有限公司
  • 2004-06-10 - 2006-10-18 - B08B3/12
  • 一种用强超声波清洁一个或多个基片同时又能减少了声能对一个或多个基片的破坏的方法和系统。基片可支撑在操作室中,并且与清洁溶液相接触,该清洁溶液包括有二氧化碳溶解在其中的清洁液,二氧化碳溶解在清洁液中的量应使二氧化碳气体在操作室内的环境下处于过饱和状态。然后将强超声波能传输到基片上。清洁溶液保护基片不被声能所破坏。另一方面,本发明提供了一种实施本方法的系统。本发明不限于二氧化碳,也可以与任何其它的气体结合使用,只要这种气体能够溶解在清洁液中,用来保护基片,使其不会因为施加强超声波/声能而被破坏。
  • 过饱和清洁溶液进行超声波
  • [发明专利]带有小分子噻吩化合物的装置-CN200510076565.9有效
  • B·S·翁;P·刘;M·比劳;Y·吴 - 施乐公司
  • 2005-06-09 - 2005-12-14 - H01L51/30
  • 一种电子装置,包括与一些电极接触的半导体层,其中半导体层包括由多个噻吩单元组成的小分子噻吩化合物,每个噻吩单元如结构(A)所示:(见图)其中每个噻吩单元在环上的第2位或/和第5位键合,其中至少一个噻吩单元的R1位于环上的第3位或第4位,或者环上的第3位和第4位两处,其中对于任意两个邻近的噻吩单元而言,排除相同或不同R1同时位于一个噻吩单元的第3位和另一个噻吩单元的第3′位。
  • 带有分子噻吩化合物装置
  • [发明专利]节约打印材料的打印设备和方法-CN97193096.1无效
  • M·赖安斯;Y·吴;S·贝赫 - 奥西-工业股份公司
  • 1997-03-12 - 2004-07-14 - G06K15/02
  • 本发明提供一种根据符合于一个预定原始格式的输入图象数据在节约打印材料的同时打印光栅化图象的方法。该方法包括以下逐个步骤:相对于原始格式缩小输入图象;根据缩小比例的图象构成一个图象点的光栅,每个点定义为一个被打印点或一个光栅化图象的空白点;通过用一个预定的填充程序在缩小的光栅中插入空白图象点来放大所说的点的光栅以返回到原始图象;以及根据放大到原始格式的点光栅打印该图象。本发明也提供实现该方法的打印设备。
  • 节约打印材料设备方法

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