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[发明专利]高温蒸汽输送系统以及方法-CN201610814116.8有效
发明人： V·巴巴扬;Q·梁;T·考夫曼-奥斯本;L·戈代;S·D·耐马尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-09-09 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本公开大体上涉及一种半导体处理装置。在一个实施方式中，在本文中公开一种处理腔室。所述处理腔室包括：腔室主体和盖，所述腔室主体和盖限定内部容积，所述盖被配置成支撑具有帽的外壳；基板支撑件，所述基板支撑件设置在所述内部容积中；蒸发器，所述蒸发器被耦接至所述帽并且具有通向所述处理腔室的所述内部容积的出口，其中所述蒸发器被配置成将前驱物气体输送至所述蒸发器与所述基板支撑件之间限定的处理区域；以及加热器，所述加热器被设置成与所述蒸发器相邻，其中所述加热器被配置成加热所述蒸发器。
高温蒸汽输送系统以及方法

[发明专利]用于光刻胶晶片的曝光后处理的方法和装置-CN202111180980.4在审
发明人： V·巴巴扬;D·A·小布齐伯格;梁奇伟;L·戈代;S·D·耐马尼;D·J·伍德洛夫;R·哈里斯;R·B·摩尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及用于执行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和装置。本文所述的装置的实施方式包括腔室主体，所述腔室主体限定处理容积。基座可设置在所述处理容积内，并且第一电极可耦接到所述基座。可移动杆可延伸穿过所述腔室主体且与所述基座相对，并且第二电极可耦接到所述可移动杆。在某些实施方式中，流体容纳环可耦接到所述基座，并且电介质容纳环可耦接到所述第二电极。
用于光刻晶片曝光处理方法装置

[发明专利]用于光刻胶晶片的曝光后处理的方法和装置-CN201611076231.6有效
发明人： V·巴巴扬;D·A·小布齐伯格;梁奇伟;L·戈代;S·D·耐马尼;D·J·伍德洛夫;R·哈里斯;R·B·摩尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及用于执行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和装置。本文所述的装置的实施方式包括腔室主体，所述腔室主体限定处理容积。基座可设置在所述处理容积内，并且第一电极可耦接到所述基座。可移动杆可延伸穿过所述腔室主体且与所述基座相对，并且第二电极可耦接到所述可移动杆。在某些实施方式中，流体容纳环可耦接到所述基座，并且电介质容纳环可耦接到所述第二电极。
用于光刻晶片曝光处理方法装置

[发明专利]浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺-CN201610405182.X有效
发明人： D·A·小布齐伯格;S·K·南;V·巴巴扬;欧阳盼盼;L·戈代;S·D·耐马尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明涉及浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺。在一个实施方式中，一种装置包括处理腔室，所述处理腔室包括：基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；热源，所述热源嵌入在所述基板支撑件中，配置用于将定位在所述基板支撑表面上的基板加热；电极组件，所述电极组件被配置成在基本上垂直于所述基板支撑表面的方向上产生电场，其中所述电极组件与所述基板支撑表面相对地定位，使所述电极组件的向下表面面对所述基板支撑表面，其中所述电极组件与所述基板支撑件间隔开，以便在所述电极组件与所述基板支撑表面之间限定处理容积；以及约束环，所述约束环设置在所述基板支撑件或所述电极组件的边缘，配置用于保持中间介质。
浸没引导曝光烘烤工艺

[实用新型]用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置-CN201620555173.4有效
发明人： D·A·小布齐伯格;S·K·南;V·巴巴扬;欧阳盼盼;L·戈代;S·D·耐马尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本实用新型涉及用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置。在一实施方式中，一种装置包括处理腔室，所述处理腔室包括基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；热源，所述热源嵌入在所述基板支撑件中，配置用于将定位在所述基板支撑表面上的基板加热；电极组件，所述电极组件被配置成在基本上垂直于所述基板支撑表面的方向上产生电场，其中所述电极组件与所述基板支撑表面相对地定位，使所述电极组件的向下表面面对所述基板支撑表面，其中所述电极组件与所述基板支撑件间隔开，以便在所述电极组件与所述基板支撑表面之间限定处理容积；以及约束环，所述约束环设置在所述基板支撑件或所述电极组件的边缘，配置用于保持中间介质。
用于进行浸没引导曝光烘烤工艺装置