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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于光刻胶晶片的曝光后处理的方法和装置-CN202111180980.4在审
发明人： V·巴巴扬;D·A·小布齐伯格;梁奇伟;L·戈代;S·D·耐马尼;D·J·伍德洛夫;R·哈里斯;R·B·摩尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及用于执行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和装置。本文所述的装置的实施方式包括腔室主体，所述腔室主体限定处理容积。基座可设置在所述处理容积内，并且第一电极可耦接到所述基座。可移动杆可延伸穿过所述腔室主体且与所述基座相对，并且第二电极可耦接到所述可移动杆。在某些实施方式中，流体容纳环可耦接到所述基座，并且电介质容纳环可耦接到所述第二电极。
用于光刻晶片曝光处理方法装置

[发明专利]用于光刻胶晶片的曝光后处理的方法和装置-CN201611076231.6有效
发明人： V·巴巴扬;D·A·小布齐伯格;梁奇伟;L·戈代;S·D·耐马尼;D·J·伍德洛夫;R·哈里斯;R·B·摩尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及用于执行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和装置。本文所述的装置的实施方式包括腔室主体，所述腔室主体限定处理容积。基座可设置在所述处理容积内，并且第一电极可耦接到所述基座。可移动杆可延伸穿过所述腔室主体且与所述基座相对，并且第二电极可耦接到所述可移动杆。在某些实施方式中，流体容纳环可耦接到所述基座，并且电介质容纳环可耦接到所述第二电极。
用于光刻晶片曝光处理方法装置

[发明专利]胺催化剂中醛的减少-CN201580071558.1有效
发明人： E·L·小里斯特;赵海波;R·A·小吉尔斯毕;R·B·摩尔 -专利权人：亨斯迈石油化学有限责任公司
申请日： 2015-01-13 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： C08G18/10 文献下载
摘要：本发明提供一种减少胺催化剂中醛含量的方法，该方法用处理剂处理该胺催化剂，该处理剂选自用异氰酸酯反应性基团取代的非环状酰胺、用异氰酸酯反应性基团取代的胍、用脲化合物或胍化合物加成的聚醚胺、自由基清除剂及其混合物。经处理的胺催化剂然后可以用于生产聚氨酯材料，其表现出减少的醛排放。
催化剂减少

[发明专利]多层式负载锁定室、传送室及适于接合上述两者的机械臂-CN200780015187.0有效
发明人： R·B·摩尔;E·鲁兰;S·桑德;M·D·塞法堤 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-06-04 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明系揭露一种用以处理基板的新式设备。具有4个环境隔离室的多层式负载锁定室系与具有机械组件的传送室接合。机械组件具有二个臂手，当机械组件顺着其轴转动时，各个臂手可水平地移动。臂手可延伸到负载锁定室的隔离室中而自下方隔离室接收基板、传送基板至处理室、接着将基板放置到上方隔离室。负载锁定室中的隔离室可具有枢接上盖，其可打开以进入隔离室内部。
多层负载锁定传送适于接合上述两者机械

[发明专利]高产量等离子体处理室-CN200510056530.9在审
发明人： M·D·塞尔维提;D·H·郭;B·H·金;T·诺瓦克;T·K·张;F·H·哈里兹;R·B·摩尔 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2005-02-16 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及用于等离子体处理室的装置和方法，其相对于现有技术需要较少的维护和停机时间且改善了可靠性。在一个实施例中，所述装置包括放在陶瓷轴上的衬底支撑，允许在大气压力下电连接到衬底支撑的内轴，放在陶瓷支座结构上而非固定到陶瓷支座结构上的铝制衬底支撑，模压进衬底支撑的蓝宝石静止点，以及在衬底支撑中以阿基米德螺线排列的加热元件，可减少衬底支撑的翘曲并增加其寿命。所述方法包括减少从处理室表面产生的颗粒，从而增加在处理室的各次就地清洁之间的时间。借助处理室部件的温度控制并利用吹扫气体，减少了颗粒的产生。
产量等离子体处理

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