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[发明专利]具有包含离聚物材料的聚光制品的聚光太阳能电池模块-CN200980153572.0无效
发明人： A·M·A·贝内特;P·博伊德尔;A·Z·布拉德利;R·A·海斯;S·C·佩塞克;G·W·普雷简;J·M·罗德里格斯-帕拉达;L·A·桑托皮特罗;W·A·沙弗;C·A·史密斯;R·H·弗伦奇 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2009-11-25 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： G02B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚光太阳能电池模块，所述聚光太阳能电池模块包括至少一个太阳能电池和至少一种聚光制品。所述至少一种聚光制品能够将约1.02至约2000太阳能等价小时的太阳能聚集到所述太阳能电池上并包含离聚物组合物，所述离聚物组合物包含离聚物或由离聚物制成，所述离聚物具有显著高于其峰值熔融温度的蠕变开始温度。
具有包含离聚物材料聚光制品太阳能电池模块

[发明专利]再循环烷烃浸渍液的装置及使用方法-CN200680043916.9无效
发明人： D·J·阿德尔曼;R·H·弗伦奇;M·F·莱蒙;彭晟;A·L·舍;R·C·惠兰 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2006-09-08 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了洁净的闭环流体输送系统和再循环低吸光度液态烷烃的方法。该烷烃可有利地用作通过使用紫外线波长的光刻法制造电子或集成光电路元件时的浸渍液。
再循环烷烃浸渍装置使用方法

[发明专利]在193nm处具有超高透明度的烷烃的包装-CN200680006610.6无效
发明人： R·C·惠兰;C·R·芬切尔;R·H·弗伦奇;P·圣;W·邱 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2006-03-01 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B65D81/18 文献下载
摘要：公开了容纳液体烷烃的包装，其在约193nm波长处显示出高透明度和光化学稳定性。容纳液体烷烃的包装可在数月或更长时间段储存而不损失或基本上不损失透明度和稳定性。还公开了制备该包装的方法。
193 nm 具有超高透明度烷烃包装

[发明专利]紫外透明的链烷与在真空中使用它们的方法以及深紫外应用-CN200580017907.8无效
发明人： R·H·弗伦奇;S·彭;R·C·惠兰 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2005-06-01 - 公布日： 2007-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及链烷的用途，该链烷在半导体晶片和器件，以及浸没式光刻法的光学耦合剂、光学胶合剂、光学元件、光学检测介质中，在紫外波长约170－260nm的范围内，特别在193和248nm照射波长是高度透明的。
紫外透明空中使用它们方法以及深紫应用

[发明专利]在真空紫外下具有高透明度的耐辐射的有机化合物和其制备方法-CN03805296.2无效
发明人： R·H·弗伦奇;D·J·琼斯;R·C·惠兰 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2003-03-06 - 公布日： 2006-03-15 - 主分类号： C07C17/00 文献下载
摘要：本发明涉及由于具有高透明度和优良的耐辐射性的优点而非常适合用于157纳米光刻的耐辐射的有机组合物，及其制备方法。
真空紫外具有透明度辐射有机化合物制备方法

[发明专利]用于显微光刻中的抗反射层-CN01819721.3无效
发明人： L·L·伯格;M·K·克劳福特;R·H·弗伦奇;R·C·维兰德;F·C·小朱姆斯特 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2001-11-21 - 公布日： 2004-11-10 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：包含支持体和至少一个抗反射层的元件，其中抗反射层由含有聚合物的组合物制备，所述聚合物选自(a)含有衍生自至少一种烯属不饱和化合物的重复单元的含氟共聚物，其特征在于至少一种烯属不饱和化合物是多环的；(b)含有被保护酸基团的支化聚合物，所述聚合物含有沿直链主链段化学连接的一个或多个支链段；(c)带有具有结构：－C(R_f)(R_f’)OH的至少一个氟代醇基的氟聚合物，其中R_f和R_f’为相同或不同的1－约10碳原子的氟烷基，或一起为(CF₂)_n，其中n为2－约10；(d)全氟－2，2－二甲基－1，3－间二氧杂环戊烯或CX₂＝CY₂的非晶态乙烯基均聚物，其中X为－F或－CF₃且Y为H；或全氟－2，2－二甲基－1，3－间二氧杂环戊烯与CX₂＝CY₂的非晶态乙烯基共聚物；(e)由取代的或未取代的乙烯基醚制备的含腈/氟代醇聚合物；以及它们的混合物。
用于显微光刻中的反射层

[发明专利]光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品及其制法-CN97194799.6无效
发明人： P·F·卡思尔;R·H·弗伦奇 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 1997-05-09 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品，它能在所选择的光刻用的光波长小于400纳米处形成180°相位移，并具有至少为0.001的光透射率，其包含至少一层铝化合物和至少一种成分，该成分在所选择的光刻用的光波长小于400纳米处比铝化合物具有较大的光吸收，并且通过在基片上淀积至少一层铝化合物和至少一种比铝化合物具有更大吸收作用的成分。
衰减隐蔽相位移式光掩模半成品及其制法

[发明专利]光掩模坯-CN97196087.9无效
发明人： R·H·弗伦奇;K·G·夏普 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 1997-06-30 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：透射衰减嵌入相移光掩模坯包括至少一种聚合物材料，优选为一种无定形含氟聚合物，或一种掺有氟功能化的有机硅烷的无定形含氟聚合物，和有机硅酸酯，或其组合，此聚合物材料具有：a)在所选择的平版印刷波长在400nm以下时的折射率(n)范围在1.2～2.0，优选在1.26～1.8的范围；和(b)，在所选择的平版印刷波长在400nw以下时的消光系数(k)范围在0.04～0.8，优选在0.06～0.59的范围。
光掩模坯

[发明专利]光掩模坯料-CN95191612.2无效
发明人： H·U·阿尔培;R·H·弗伦奇;F·D·卡尔克 -专利权人：杜邦光掩公司
申请日： 1995-02-10 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了可透过预埋移相器-光掩模坯料，它包括一种光学非均匀性衰减薄膜，该薄膜在平印波长下至少具有0.001的透射，而且实质上是由多种成分的组合构成的，其中一种成分比另一种成分在平印波长下具有更高的吸收率。距离薄膜表面的一种深度，比另一种深度具有较高吸收成分的较高含量，并且贯穿此薄膜厚度的折射率和/或消光系数变化曲线是渐变的。上述变化曲线和薄膜厚度可进行选择，以在选定的平印波长下提供约180°或其奇数倍的相位移。
光掩模坯料

[发明专利]衰减镶嵌相移光掩模空白片-CN97194798.8无效
发明人： P·F·卡思尔;R·H·弗伦奇 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 1997-05-09 - 公布日： 1999-06-23 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种可以按照选定的<400nm的蚀刻波长以至少0.001的透光率产生180°相移的衰减镶嵌式相移光掩模空白片,所述的光掩模空白片包括若干或者是周期性地、或者是非周期性地交错排列的光学透明材料层和光学吸收材料层。所述的光学透明材料层和光学吸收材料层优选是通过用蒸气沉积法交替地将光学透明材料层和光学吸收材料层沉积在片基上而制成的。
衰减镶嵌相移光掩模空白

[发明专利]光掩模板-CN93112904.4无效
发明人： H·U·阿尔普莱;R·H·弗伦奇;F·D·卡尔克 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 1993-11-16 - 公布日： 1994-08-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：公开了一种透光埋置相移器光掩模板，其包括光学上不均匀衰减薄膜，该膜有至少0.001的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分，贯穿整个薄膜厚度，消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系数变化的分布和薄膜厚度，在选定波长的情况下，提供大约180°的相移(或者它的奇数倍相移)。
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