专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]排气系统-CN202021208264.3有效
  • N·伯格 - 佛吉亚排放控制技术美国有限公司
  • 2020-06-24 - 2021-06-29 - F01N13/08
  • 排气系统包括排气管,排气管限定沿着轴线延伸的排气气体通路,并且具有横穿轴线延伸的截面。排气管中的至少一个传感器开口构造成接纳排气气体传感器。挡板位于排气气体通路内并且包括具有敞开截面的多个引导通道。每个引导通道从面对排气管的内表面的第一端延伸到与第一端相对的第二端。引导通道将排气气体从截面的不同区域朝向至少一个传感器开口引导。
  • 排气系统
  • [发明专利]制备苯型重氮盐的交叉偶联产物的方法-CN201080025096.7无效
  • N·伯格;A·克赖普尔;B·斯密特;F·赫尔特;R·贝格尔 - 齐卢姆有限公司专利第二两合公司
  • 2010-04-22 - 2012-05-16 - C07C245/20
  • 本发明涉及制备根据通式(I)的苯型重氮盐的交叉偶联产物的方法,其中残基R1,R2,R3,R4和R5彼此独立地代表氢、卤素、烷基、烯基、芳基、烷氧基、芳氧基、硝基、氰基、羟基、乙酰基和/或重氮基,且X代表BF4,Cl,F,SO3CH3,CO2CH3,PF6,ClO2CH3或ClO4,所述方法包括下列步骤:(a)提供苯型酰胺,除了重氮官能团之外,它具有与通式(I)的苯型重氮盐相同的取代基R1,R2,R3,R4和R5,且所述酰胺水解成胺或者提供相应的胺类;(b)这样获得的或所提供的胺与亚硝酸盐重氮化和(c)随后苯型重氮盐与偶联反应配偶在催化剂的存在下形成交叉偶联产物,其中所述偶联反应配偶由通式(II)表示,其中R6,R7和R8是相同或不同的并代表氢、羧烷基残基、羧芳基残基、烷基残基、芳基残基、烷氧基残基、芳氧基残基,其中所述残基可以分别包含Si,N,S,O和/或卤素原子,或者R6和R7用双键形成芳香环,它可以具有R8和一至四个其它取代基,所述取代基彼此独立地选自直链或分支的(C1-C6)-烷基/(C3-C7)-环烷基,直链或分支的(C1-C6)-烯基,直链或分支的(C1-C6)烷氧基,卤素,羟基,氨基,二(C1-C6)-烷氨基,硝基,乙酰基,氰基,苄基,4-甲氧基苄基,4-硝基苄基,苯基和4-甲氧基苯基,并且Y=H,-B(OR)2,-SnR3,-ZnR,-SiR3或Mg(卤素),其中至少步骤(b)和(c)不进行中间产物的中间分离。根据所述方法可以更简单和以更高产率实施交叉偶联反应,而不必对含羟基的芳香族反应物的羟基提供保护基团。
  • 制备苯型重氮盐交叉联产方法
  • [发明专利]清洗物体,特别是薄圆片的装置和方法-CN200780001779.7无效
  • N·伯格 - 里纳特种机械有限责任公司
  • 2007-12-10 - 2009-02-04 - H01L21/00
  • 本发明涉及用于清洗薄晶片(6)的装置,其中将晶片(6)的一侧固定在载体装置(2),和其中在2个相邻晶片之间形成间隙(7),和其中该装置基本上包括喷淋装置(15),通过它将流体喷入到各个间隙(7)中,和可以用液体充满的液槽(14),它的尺寸是这样,它能容纳载体装置(2)。按照本发明,可选择地或者喷淋(15)相对不动的载体装置(2)是可以移动的,或者相对不动的喷淋装置(15)载体装置(2)可以移动,或者载体装置(2)以及喷淋装置(15)两者互相可以相对移动。该方法突出之处在于,在优选的清洗过程中,将载体装置(2)放入液槽后首先用热的流体进行喷淋清洗,接着在冷的液体中进行超声波清洗和用热的液体进行又一次喷淋清洗。
  • 清洗物体特别是薄圆片装置方法
  • [发明专利]用于对物品尤其对薄的盘片进行清洗的设备和方法-CN200780001569.8无效
  • N·伯格 - 里纳特种机械有限责任公司
  • 2007-12-10 - 2009-02-04 - H01L21/00
  • 本发明涉及一种用于对薄的晶片(6)进行清洗的设备,其中所述晶片(6)以其一个侧面固定在支座装置(2)上并且分别在两个相邻的基片之间构成中间空隙(7),其中所述设备主要包括用于将流体送入所述中间空隙(7)中的喷淋装置(16)、可以加注流体的池(14)以及用于使所述支座装置(2)旋转的回转装置(15),其中设计所述池(14)的尺寸,使得其接纳所述支座装置(2)。按本发明,可选择要么所述喷淋装置(16)可以相对于固定的支座装置(2)运动,要么所述支座装置(2)可相对于固定的喷淋装置(16)运动,要么不仅所述支座装置(2)而且所述喷淋装置(16)可相对于彼此运动。这种方法的突出之处在于,优选在清洗过程中首先用暖的流体进行喷淋,其中所述支座装置(2)在所述池的内部运动,并且随后用冷的流体进行超声清洗并且再度用暧的流体进行喷淋。
  • 用于物品尤其盘片进行清洗设备方法

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