“M·M·J·W·范赫彭”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果44个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件-CN201210518419.7有效
发明人： W·A·索尔;V·Y·班尼恩;J·H·J·莫尔斯;M·M·J·W·范赫彭;A·M·亚库林 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-02-24 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种光学元件、包括该光学元件的光刻设备、器件制造方法以及所制造的器件。一种光学元件包括第一层(4)，所述第一层包括第一材料，并配置成对第一波长的辐射是基本上反射的并且对第二波长的辐射是基本上透明的。光学元件包括第二层(2)，所述第二层包括第二材料，并配置成对所述第二波长的辐射是基本上吸收的或透明的。光学元件包括第三层(3)，位于所述第一层和所述第二层之间的所述第三层包括第三材料，并对所述第二波长的辐射是基本上透明的并且配置成减小所述第二波长的辐射从所述第二层的面朝所述第一层的顶部表面的反射。第一层位于入射辐射的光学路径中相对于所述第二层的上游，以便提高所述第一波长的辐射的光谱纯度。
光学元件包括光刻设备器件制造方法以及

[发明专利]沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备-CN201210056238.7有效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;V·Y·巴尼内;J·H·J·莫尔斯;C·I·M·A·斯皮;D·J·W·克鲁德;P·C·扎姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：沉积物去除、光学元件保护方法、器件制造法和光刻设备本发明提供了一种去除包括光学元件的设备的光学元件上沉积物的方法，该方法包括在该设备的至少一部分内提供含有H2的气体；从含H2气体中的H2产生氢自由基；以及使具有沉积物的光学元件与至少部分氢自由基接触，并且去除沉积物的至少一部分。此外，本发明提供了一种包括光学元件的设备的光学元件的保护方法，该方法包括：通过沉积过程向光学元件提供盖层；和在设备使用期间或使用之后，在如上所述的去除过程中，从光学元件上去除盖层的至少一部分。该方法可用在光刻设备中。
沉积物去除光学元件保护方法器件制造光刻设备

[发明专利]光学元件-CN201080041324.X有效
发明人： H·J·科尼利森;M·M·J·W·范赫彭;L·范佩特森 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2010-09-09 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G02B6/42 文献下载
摘要：公开了一种光学元件(200)，其中可以在可以相对容易组装并且相对于彼此维持于所需位置的集成解决方案中提供一个或者多个发光二极管LED和附加光学器件。光学元件(200)可以实现在与已知器件相比相对薄和紧凑的集成解决方案中提供一个或者多个LED和附加光学器件，从而可以向诸如光学纤维、光学纤维阵列、带形光导结构等薄光导(205，206)中注入来自一个或者多个LED的光。
光学元件

[发明专利]光导、照明系统、背光系统和显示设备-CN201080042473.8无效
发明人： F·皮杰尔曼;M·M·J·W·范赫彭;M·范巴德维杰克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2010-09-09 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于对照明系统(100)的光输出窗口(120)进行照明的光导(10)、照明系统、背光系统(100)和显示设备(200)。该光导包括第一光导部分(10A)和第二光导部分(10B)，其中，第一光导部分(10A)包括从第一光导部分(10A)的第一侧壁(40A)延伸的第一光导延长段(70A)，第二光导部分(10B)包括从第二光导部分(10B)的第二侧壁(40B)延伸的第二光导延长段(70B)，第一光导延长段(70A)配置用于在第二光导部分(10B)的面朝第二光导部分(10B)的后壁(30B)的一侧处定位第一光输入窗口(80A)，第二光导延长段(70B)配置用于在第一光导部分(10A)的面朝第一光导部分的后壁(30A)的一侧处定位第二光输入窗口(80B)。根据本发明的光导的效果在于：归因于第一光导延长段和第二光导延长段的配置，第一光导部分的第一光输入窗口布置在第二光导部分的后面，以及第二光导部分的第二光输入窗口布置在第一光导部分的后面。
照明系统背光显示设备

[发明专利]辐射系统和光刻设备-CN201110285866.8无效
发明人： A·C·瓦森克;V·Y·班尼恩;V·V·伊娃诺夫;K·N·科什烈夫;T·P·M·卡迪;V·M·克里夫塔森;D·J·W·克伦德尔;M·M·J·W·范赫彭;P·P·A·A·布洛姆;W·A·索尔;D·克拉什科夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2007-11-27 - 公布日： 2011-12-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射系统和光刻设备，所述辐射系统用于产生限定一个光学轴线的辐射束。所述辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。放电源包括构造并配置成设置有电压差的一对电极，和系统，该系统用于在该对电极之间产生等离子体以便在电极之间的等离子体中提供放电。辐射系统还包括用于捕获来自电极的碎片的碎片捕获遮蔽件。碎片捕获遮蔽件构造并配置成将电极和以相对于光学轴线的预定球面角提供的光的路线遮挡分开，并且在该光的路线中电极之间的中心区域提供孔。
辐射系统光刻设备

[发明专利]辐射源、光刻设备以及器件制造方法-CN200980131716.2有效
发明人： M·J·J·杰克;W·A·索尔;M·M·J·W·范赫彭;V·Y·班尼恩;A·M·雅库尼恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-09 - 公布日： 2011-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光谱纯度滤光片，配置成允许极紫外(EUV)辐射透射通过其中并且折射或反射非极紫外伴随辐射。光谱纯度滤光片可以是源模块和/或光刻设备的一部分。
辐射源光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光谱纯度滤光片和光刻设备-CN200980133185.0有效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-29 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光谱纯度滤光片(30)配置成反射极紫外辐射。所述光谱纯度滤光片(30)包括：基底(31)；和抗反射涂层(32)，所述抗反射涂层在所述基底(31)的顶表面上。所述抗反射涂层(32)配置成透射红外辐射。滤光片还包括多层堆叠体(33)，所述多层堆叠体(33)配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射。
光谱纯度滤光光刻设备

[发明专利]光谱纯度滤光片、包括这样的光谱纯度滤光片的光刻设备以及器件制造方法-CN200980132826.0有效
发明人： W·A·索尔;M·M·J·W·范赫彭;M·J·J·杰克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-29 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光谱纯度滤光片包括孔阑。光谱纯度滤光片被配置成通过配置成吸收第一波长的辐射和允许第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔阑，来提高辐射束的光谱纯度。所述第一波长大于所述第二波长。光谱纯度滤光片可以用于改善极紫外(EUV)辐射束的光谱纯度。
光谱纯度滤光包括这样光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]带可分离部段的导管-CN200980123970.8无效
发明人： W·A·索尔;M·M·J·W·范赫彭 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2009-06-24 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： A61M25/01 文献下载
摘要：本发明涉及一种导管，该导管包括导管主体部段(1)和至少一个导管末端部段(2)。导管主体部段(1)可沿纵向延伸。至少一个导管末端部段(2)可位于导管主体部段(1)的远侧处。在插入导管期间可使用导管的第一操作模式，在该第一操作模式中，导管主体部段(1)和至少一个导管末端部段(2)可基本上沿纵向共同移动。当导管到达了其不能再进一步前移的位置时可使用导管的第二操作模式，在该第二操作模式中，导管主体部段(1)和至少一个导管末端部段(2)可相对于彼此移动以使得至少一个导管末端部段(2)可与导管主体部段(1)分离。
可分离导管

[发明专利]光刻设备、等离子体源以及反射方法-CN200980107377.4有效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-03-03 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：等离子体源，其包括配置成包围等离子体形成位置(2)的容器(1)、配置成将光辐射(8)转移到或离开所述容器的光学装置(3)和反射器(6)，反射器(6)布置在所述光学装置和所述等离子体形成位置源之间的光学路径上。所述反射器配置成在所述光学装置和所述等离子体形成位置之间反射所述光辐射。所述反射器在操作时形成为熔融金属反射镜。
光刻设备等离子体以及反射方法

[发明专利]隔间-CN200880117040.7有效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;T·德克 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2008-11-17 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： D05C17/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种隔间，其提供有簇状织物(100)，该簇状织物(100)包括：衬里(10)，以及形成从衬里的第一侧延伸的毛簇的纱线(40)，所述隔间还包括光源(50；80)和用于光源的导体装置(60)，其中光源、导体装置和衬里设置成至少部分地通过衬里辐射来自光源的光，该衬里基本上可透过光。簇状织物(100)可以是毛毯。
隔间

[发明专利]构造和布置以产生辐射的装置、光刻设备以及器件制造方法-CN200980106786.2无效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-02-23 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种装置被构造和被布置成使用通过气体介质的放电来产生辐射。所述装置包括第一电极和第二电极(12a、12b)；和液体供给装置，其被布置成提供液体至所述装置中的位置上。所述装置被布置成电供给有电压，且将电压至少部分地供给至第一电极和第二电极，用于允许在由电压产生的电场中产生放电。放电产生辐射等离子体。所述装置还包括防护装置，其布置在放电位置(13)和连接至第一电极和/或第二电极的导电部件(11a)之间。
构造布置产生辐射装置光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]基于倏逝照明和荧光的分子诊断系统-CN200980104107.8有效
发明人： M·I·博姆法;M·M·J·W·范赫彭;D·J·W·克伦德 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2009-01-26 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：一种照明检测系统包括：激发辐射源和关联的辐射处理装置以及用于将来自辐射处理装置的激发辐射聚焦到样本的分析区域上的聚焦装置。辐射收集装置收集来自样本的分析区域的由所述激发产生的辐射，并且检测器检测收集的辐射。聚焦的激发辐射包括激发线，该激发线在样本中是倏逝的。这组合了线扫描(缩减分析时间)和倏逝激发(降低背景信号)的优点并且于是允许提高医护点应用的测量速度和精度。
基于照明荧光分子诊断系统

[发明专利]辐射源、光刻设备以及器件制造方法-CN200880124729.2无效
发明人： V·Y·班尼恩;M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源，配置用以产生辐射。辐射源包括第一电极(11；61)和第二电极(12；62)，配置成用以在使用期间产生放电，以由等离子体燃料产生用于发射辐射的等离子体。辐射源还包括：燃料供给装置，配置成将等离子体燃料供给到与所述第一电极(11；61)和第二电极(12；62)相关的燃料释放区域；和燃料释放装置，配置成引发从所述燃料释放区域的(由所述燃料供给装置供给的)燃料的释放。所述燃料释放区域与所述第一电极(11；61)和所述第二电极(12；62)间隔分开。
辐射源光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]发光簇状毛毯-CN200880117263.3有效
发明人： M·M·J·W·范赫彭;M·P·C·M·克里恩 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2008-11-14 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： D05C17/02 文献下载
摘要：本发明首先提供了一种发光簇状毛毯，其具有可透过光的主衬里层、可选的粘附层，包含光外耦合部位的波导以及可选的辅助衬里层。主衬里层设有毛簇。波导被设置成将光源的光源光作为波导光耦合进来，并且被设置成在波导光外耦合部位处将波导光耦合出去以便提供毛毯光。波导光外耦合部位在主衬里层之下。
发光毛毯

1
2
3
下一页»
尾页
共 44 条