专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]使用深隔离的FinFET技术-CN201980017868.3在审
  • J·卡普;M·J·哈特 - 赛灵思公司
  • 2019-02-14 - 2020-10-27 - H01L21/8238
  • 本文中描述了FinFET晶体管(102)、(104)、PN结(150)及其形成方法(400)。在一个示例中,描述了一种FinFET晶体管(102、104),该FinFET晶体管(102、104)包括金属栅极(208)所包裹的沟道区域(214),该沟道区域(214)连接源极区域(210)和漏极区域(212)。第一氧化物隔离层(112)设置在鳍(202)的第一侧上,而第二氧化物隔离层(114)设置在鳍(202)的第二侧上,其中第二侧与第一侧相对。第二氧化物隔离层(114)的厚度(284)大于第一氧化物隔离层(112)的厚度(280)。
  • 使用隔离finfet技术
  • [实用新型]集成电路-CN201921351731.5有效
  • M·J·哈特;J·卡普;M·法赫尔丁;P·梅拉德 - 赛灵思公司
  • 2019-08-20 - 2020-08-07 - H01L27/07
  • 本文中描述了一种集成电路,其包括:半导体衬底,包括p掺杂区域和n掺杂区域;第一晶体管,包括设置在所述半导体衬底的所述p掺杂区域中的n+掺杂源极区域;第二晶体管,包括设置在所述半导体衬底的所述n掺杂区域中的p+掺杂源极区域,所述p+掺杂源极区域、所述n掺杂区域、所述p掺杂区域和所述n+掺杂源极区域形成PNPN结构;以及镇流电阻器,与所述PNPN结构串联电连接在电源节点与接地节点之间。
  • 集成电路
  • [实用新型]集成电路芯片-CN201921552346.7有效
  • P·梅拉德;陈嫣然;M·J·哈特 - 赛灵思公司
  • 2019-09-18 - 2020-07-07 - H01L27/02
  • 提供了一种集成电路(IC)芯片,该IC芯片具有适于检测和解锁被锁存的晶体管的电路。在一个示例中,IC芯片包括本体、设置在本体中并耦合至本体上设置的多个接触焊盘中的至少一个的电源轨以及设置在本体中的第一核心电路。第一核心电路包括第一限流电路、具有第一晶体管的可控硅整流器(SCR)器件、第二晶体管和第一锁存器感测电路。第一限流电路耦合至电源轨。第一和第二晶体管的第一端子耦合至第一限流电路。第一锁存感测电路具有耦合至第一和第二晶体管的第二端子的第一输入端子。第一锁存感测电路还具有耦合至第一限流电路的输出端子。
  • 集成电路芯片
  • [实用新型]用于在集成电路设备中存储数据的电路-CN201921353056.X有效
  • 陈嫣然;P·梅拉德;M·J·哈特 - 赛灵思公司
  • 2019-08-20 - 2020-04-21 - H03K19/0185
  • 描述了一种用于在集成电路设备中存储数据的电路。该电路包括:反相器,该反相器包括第一晶体管、第一输出、第二晶体管和第二输出,第一晶体管具有被配置为接收输入数据的第一栅极,第一输出被配置为生成第一反相数据输出,第二晶体管具有被配置为接收输入数据的第二栅极,第二输出被配置为生成第二反相数据输出;耦合到反相器的第一输出的第一传输门;耦合到反相器的第二输出的第二传输门;以及存储元件,该存储元件具有被耦合为接收第一传输门的输出和第二传输门的输出的输入。还描述了一种在集成电路中存储数据的方法。
  • 用于集成电路设备存储数据电路
  • [实用新型]半导体结构-CN201921324978.8有效
  • J·卡普;M·J·哈特 - 赛灵思公司
  • 2019-08-15 - 2020-04-03 - H01L29/06
  • 本文中描述的半导体结构提供了单事件闩锁(SEL)减轻技术。在一个示例中,一种半导体结构包括:半导体基板;p型晶体管,具有设置在半导体基板中的n掺杂区域中的p+源极/漏极区域;n型晶体管,具有设置在半导体基板中的p掺杂区域中的n+源极/漏极区域;n+保护环,设置在n掺杂区域中并且侧向围绕p型晶体管的p+源极/漏极区域;以及p+保护环,设置成侧向围绕n掺杂区域。p+保护环设置在p型晶体管与n型晶体管之间。
  • 半导体结构
  • [发明专利]RHOGTP酶鸟嘌呤交换因子和编码该因子的核酸-CN97198441.7无效
  • M·J·哈特 - 昂尼克斯药物公司
  • 1997-10-07 - 1999-10-20 - C12N15/12
  • 本发明涉及鸟嘌吟交换因子(GEF),例如Rho-GEF,如p115Rho-GEF的所有方面。GEF通过调节GTP酶活性而体外或体内的调节细胞信号传递途径。为了说明,描述了p115Rho-GEF,它调节RhoGTP酶活性。但是,本发明还涉及其他GEF,特别是其他Rho-GEF。本发明具体涉及分离的P115Rho-GEF多肽或其片段,编码p115Rho-GEF的核酸或其片段。所述多肽和核酸的衍生物。本发明还涉及在治疗、诊断中利用所述多肽、核酸、或其衍生物的方法,并作为研究工具。本发明另一方面涉及识别p115Rho-GEF的抗体和其他配体,p115Rho-GEF活性的调节剂,治疗RhoGTP酶相关疾病的方法。
  • rhogtp嘌呤交换因子编码核酸

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