专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]发射调谐方法和利用方法制造的器件-CN200980121201.4有效
  • A·奇特尼斯;J·埃德蒙;J·C·布里特;B·P·克勒;D·T·埃默森;M·J·伯格曼;J·S·凯巴卢 - 克里公司
  • 2009-03-31 - 2011-05-04 - H01L33/50
  • 一种用于制造发光二极管(LED)芯片的方法,包括典型地在晶圆上提供多个发光二极管,并用转换材料涂敷所述发光二极管,以使至少一些来自所述发光二极管的光穿过所述转换材料并被转换。来自发光二极管芯片的光发射包括来自转换材料的光,典型性地与发光二极管的光相组合。至少一些发光二极管芯片的发射特性被测量,并且发光二极管上的至少一些转换材料被移除,以改变发光二极管芯片的发射特性。本发明特别地可应用于在晶圆上制造发光二极管芯片,其中发光二极管芯片具有在目标发射特性的范围内的光发射特性。该目标范围可落入CIE曲线上的发射区域内,以减少对来自晶圆的发光二极管的装仓的需求。通过对发光二极管上的转换材料微加工,晶圆中的发光二极管芯片的发射特性可被调谐至期望的范围。
  • 发射调谐方法利用制造器件
  • [发明专利]在SiC衬底上形成的GaN基LED-CN201010156574.X在审
  • D·T·埃默森;A·C·阿贝尔;M·J·伯格曼 - 克里公司
  • 2002-06-12 - 2010-09-15 - H01L33/04
  • 本申请公开了一种发光二极管。该二极管包括:具有第一导电类型的碳化硅衬底(21);位于SiC衬底之上的、导电类型与衬底相同的第一氮化镓层(25);在GaN层(27)上的、由选自GaN、InGaN和AlInGaN的多个交替层重复系列形成的超晶格;位于超晶格上、导电类型与第一GaN层相同的第二GaN层(30);第二GaN层上的多量子阱(31);多量子阱上的第三GaN层;位于第三GaN层(32)上、导电类型与衬底和第一GaN层相反的接触结构;对SiC衬底的欧姆接触;和对接触结构的欧姆接触。
  • sic衬底形成ganled

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