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[发明专利]光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法-CN201610173066.X有效
发明人：牛田正男;坪井诚治;安森顺一;阿山兼士 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述特性，上述显示装置的制造方法以高成品率制造高精细显示装置。上述光掩模空白片在透明基板上层叠有遮光层和反射降低层，遮光层由多层层叠膜以蚀刻速度从遮光层表面向透明基板阶段性或连续性地加快的方式构成，该遮光层中的形成于基板侧的下层部在436nm波长下的光学浓度为1.0以上。此外，上述光掩模的制造方法使用该光掩模空白片制造光掩模。并且，上述显示装置的制造方法使用该光掩模制造显示装置。
光掩模空白制造方法显示装置

[发明专利]光掩模坯料及其制造方法、光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法-CN201810770791.4在审
发明人：坪井诚治;中村真实 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03F1/46 文献下载
摘要：一种光掩模坯料，可得到高精度的掩模图案，且能够抑制显示不均的光学特性，具有：透明基板；遮光膜，从透明基板侧起具备第一反射抑制层、遮光层、第二反射抑制层，第一反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为25～75原子％、氧的含有率为15～45原子％、氮的含有率为10～30原子％的组成，遮光层为含有铬和氮的铬系材料，具有铬的含有率为70～95原子％，氮的含有率为5～30原子％的组成，第二反射抑制层为含有铬、氧、氮的铬系材料，具有铬的含有率为30～75原子％、氧的含有率为20～50原子％、氮的含有率为5～20原子％的组成，遮光膜的表面及背面对于上述曝光光的曝光波长的反射率分别为10％以下，光学密度为3.0以上。
反射抑制层铬系材料光掩模坯料透明基板遮光层遮光膜制造光学特性曝光波长显示不均显示装置掩模图案反射率光掩模曝光光背面

[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法-CN201710794878.0在审
发明人：坪井诚治;浅川敬司;中村真实;阿山兼士;安森顺一 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2017-09-06 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供能够使掩模图案截面形状的垂直化的光掩模坯料及其制造方法。本发明还提供使用其的光掩模的制造方法及显示装置的制造方法。本发明的光掩模坯料具有透明基板(1)、遮光层(2)和减反射层(3)，遮光层(2)由含有铬和氮的铬化合物形成，减反射层(3)由含有铬、氮和氧的铬化合物形成，减反射层(3)中含有的铬的含量少于遮光层(2)中含有的铬的含量，减反射层(3)是叠层了多层的叠层膜，减反射层(3)的表面侧的上层部(32)所含有的氧含量多于减反射层(3)的遮光层侧的下层部(31)所含有的氧含量，在上层部(32)的表面侧具有实质上不含碳的区域，在该区域，氧朝向最表面连续地增加，且氧相对于氮的比例(O/N)的最大值为5以上。
光掩模坯料制造方法使用显示装置

[发明专利]掩模坯料的制造方法以及光掩模的制造方法-CN200910133541.0无效
发明人：宫田凉司;浅川敬司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2009-04-10 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模坯料的制造方法以及光掩模的制造方法，其包含如下工序，即，使从收容有液状的抗蚀剂的液槽在毛细管现象的作用下通过涂敷喷嘴而到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂与具有用于形成复制图案的薄膜的基板的被涂敷面接触，同时使基板和涂敷喷嘴进行相对移动，由此在所述被涂敷面上涂敷抗蚀剂而形成抗蚀剂膜。在所述抗蚀剂膜形成工序中，在涂敷喷嘴通过所述相对移动到达了基板的涂敷结束位置附近时，改变涂敷条件而使所述被涂敷面上的涂敷量减少。
坯料制造方法以及光掩模

[发明专利]掩模坯件的制造方法及涂布装置-CN200810177837.8有效
发明人：宫田凉司;浅川敬司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种掩模坯件的制造方法及涂布装置，其包括使从收容有液状抗蚀剂(21)的液槽(20)通过喷嘴(22)到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使基板和喷嘴相对移动，在被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂膜的工序。在该抗蚀剂膜的形成工序中，在对被涂布面涂布抗蚀剂(21)的过程中，一边向上述液槽(20)内补充抗蚀剂，一边进行控制使得液槽内的抗蚀剂的液面在一定高度。
掩模坯件制造方法装置

[发明专利]掩模坯板的制造方法及光掩模的制造方法-CN200810177861.1有效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-06-12 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种带有抗蚀剂膜的掩模坯板的制造方法，包括：一边从具有向一方向延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴中吐出抗蚀剂液、一边向与所述一方向相交叉的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对地扫描、在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序；其包括：准备在基板的主表面的除了沿周边的外周部之外的区域具有用于形成掩模图案的薄膜的基板的工序；和以下工序，所述工序为，以所述基板的主表面的沿着周边的外周部分的基板表面的露出面为接液开始部位，在使所述涂敷喷嘴的前端部接近所述基板表面的露出面，使所述抗蚀剂液接液所述基板表面的露出面时，在使所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔相对小的状态下开始接液，然后将所述涂敷喷嘴的前端部与所述基板表面的露出面之间的间隔扩展到相对大的状态，结束接液。
掩模坯板制造方法光掩模

[发明专利]掩模坯料的制造方法及光掩模的制造方法-CN200810099160.0无效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-05-14 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种掩模坯料的制造方法，其是具有从具有在一方向上延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀剂液，同时，使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面在与所述一方向交叉的方向上相对扫描，并在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂液涂敷工序的带有抗蚀剂膜的掩模坯料的制造方法，其特征在于，包括：在使基板的被涂敷面和所述涂敷喷嘴的前端部靠近，使所述抗蚀剂液与所述被涂敷面接触时，以将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔设为相对小的状态开始液体接触，然后，将所述涂敷喷嘴的前端部和所述被涂敷面的间隔扩大至相对大的状态，结束液体接触的工序。
坯料制造方法光掩模

[发明专利]掩膜坯料的制造方法及光掩膜的制造方法-CN200810090895.7有效
发明人：浅川敬司;宫田凉司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-04-09 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种带有抗蚀膜的掩膜坯料的制造方法，其包括抗蚀剂涂敷，在该抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀液。在本制造方法中，尤其是，涂敷后的抗蚀剂的干燥从相对于抗蚀剂的涂敷膜表面平行的方向供给清洁气体而进行。
坯料制造方法光掩膜

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