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[发明专利]源收集器设备、光刻设备和方法-CN201810572686.X有效
发明人： N·克里曼斯;D·格卢什科夫;R·豪特曼;B·伦肯斯;G·斯温克尔斯;C·沃斯比克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-03-05 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器，配置成生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位引导的燃料液滴流；护罩，构造和布置用于保护所述燃料液滴流；和检测设备，构造和布置用于在燃料液滴流沿着所述护罩通过时检测燃料液滴在燃料液滴流中的融合。另外，本发明还提供了一种用于检测在源收集器设备的燃料液滴流中的伴生液滴的形成的方法和光刻设备。
收集设备光刻方法

[发明专利]源收集器设备、光刻设备和方法-CN201480019323.3有效
发明人： N·克里曼斯;D·格卢什科夫;R·豪特曼;B·伦肯斯;G·斯温克尔斯;C·沃斯比克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-03-05 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用在光刻设备中的源收集器设备，所述源收集器设备包括：燃料液滴生成器(4)，配置成在使用中生成从所述燃料液滴生成器的出口朝向等离子体形成部位(7)引导的燃料液滴流(6)。为了防止液滴伴生对等离子体形成的干扰，气体供给装置被提供以在使用中提供气体流(A)，例如氢气流，该气体流将任何伴生液滴偏转出所述燃料液滴流。另外，检测设备可以设置为护罩(5)的一部分，以确定燃料液滴融合所出现的点，由此提供对于在燃料液滴流中存在伴生液滴的可能性的指示。 1
燃料液滴源收集器等离子体形成伴生液滴光刻设备气体流生成器偏转气体供给装置检测设备防止液氢气流引导的伴生护罩融合配置出口

[发明专利]辐射源-CN201280042060.9有效
发明人： A·亚库宁;V·伊万诺夫;J·范斯库特;V·克里夫特苏恩;G·斯温克尔斯;V·梅德韦杰夫 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-08-01 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源（60），适于提供辐射束至光刻设备的照射器。辐射源包括：喷嘴，配置成沿轨迹（64）朝向等离子体形成位置（66）引导燃料液滴（62）的束流。辐射源配置成接收第一辐射量辐射（68）使得第一辐射量辐射入射到位于等离子体形成位置的燃料液滴（62a），并使得第一辐射量辐射传递能量进入燃料液滴以生成修改的燃料分布（70），修改的燃料分布具有表面。辐射源还配置成接收第二辐射量辐射（72）使得第二辐射量辐射入射到修改的燃料分布的表面（72a）的部分上，第二辐射量辐射具有相对于所述表面的部分的p偏振分量；并使得第二辐射量辐射传递能量至修改的燃料分布以生产辐射生成等离子体，辐射生成等离子体发射第三辐射量辐射（74）。辐射源还包括收集器（CO），配置成收集和引导第三辐射量辐射的至少部分。辐射源配置成使得第二辐射量辐射沿第一方向传播，第一方向不平行于修改的燃料分布的表面的部分的法线。
辐射源

[发明专利]辐射源-CN201180072807.0有效
发明人： A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·瓦格纳;H·泰根博世;G·斯温克尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。
辐射源

[发明专利]辐射源和光刻设备-CN201310166910.2有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;V·伊万诺夫;E·鲁普斯特拉;V·克里夫特苏恩;G·斯温克尔斯;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-21 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种辐射源及光刻设备。所述辐射源配置成生成极紫外辐射。所述辐射源包括等离子体形成部位，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束接触而形成等离子体所在的位置；出口，所述出口配置成允许气体出离辐射源；和污染物阱，所述污染物阱至少部分地设置在辐射源的壁上。所述污染物阱配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
辐射源光刻设备

[发明专利]EUV辐射源和光刻设备-CN201080060592.6无效
发明人： E·鲁普斯特拉;G·斯温克尔斯;E·布雷曼;W·梅斯特龙 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-30 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种EUV辐射源，包括燃料供给装置，配置成提供燃料至等离子体形成位置。燃料供给装置包括贮液器，配置成将燃料保持在以将燃料保持为液体状态的足够高的温度条件下，和压力容器，配置成容装贮液器，压力容器与贮液器至少部分地热隔离。EUV辐射源还包括激光辐射源，配置成在等离子体形成位置处照射由燃料供给装置提供的燃料。
euv 辐射源光刻设备

[发明专利]包括液滴加速器的EUV辐射源以及光刻设备-CN201080059731.3有效
发明人： W·麦斯特姆;E·鲁普斯特拉;G·斯温克尔斯;E·布耳曼 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：一种EUV辐射源，包括：燃料源，配置用于将燃料供给至等离子体形成位置。所述燃料源包括：喷嘴，配置用于喷射燃料液滴；以及液滴加速器，配置用于加速燃料液滴。EUV辐射源包括激光辐射源，配置用于在等离子体形成位置处照射通过所述燃料源供给的燃料。
包括加速器 euv 辐射源以及光刻设备

[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法-CN201080055711.9有效
发明人： A·凯姆鹏;R·布吕尔斯;E·鲁普斯特拉;R·莫尔斯;G·斯温克尔斯;W·梅斯特罗姆 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-12-08 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射源生成用于光刻设备的极紫外辐射，作为设置有低压氢气环境的腔。痕量的保护性化合物，例如H2O，H2O2，O2，NH3或NOx，被提供至所述腔，以辅助保持在腔中的金属，例如钛部件上的保护性氧化物膜。
辐射源光刻设备器件制造方法

[发明专利]源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法-CN201080042458.3有效
发明人： E·鲁普斯特拉;V·班尼恩;G·斯温克尔斯;S·皮克尔德;D·兰贝特斯基;U·斯坦姆;W·N·帕特劳 -专利权人： ASML荷兰有限公司;赛默股份公司
申请日： 2010-09-24 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种EUV光刻设备(100)，包括：源收集器设备(SO)，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体(210)来产生极紫外辐射。所述源收集器设备(SO)包括腔(310)，所述腔(310)与腔外部的引导通路(320)流体连通。用于循环缓冲气体的泵(BPS)是引导通路(320)的一部分，并提供闭合回路缓冲气体流(222)。流动通过引导通路(320)的气体穿过气体分解器(TD1)，其中燃料材料和缓冲气体材料的化合物被分解，使得分解的缓冲气体材料可以被供给回至闭合回路流动路径(222)中。
收集设备光刻以及器件制造方法

[发明专利]辐射源和光刻设备-CN200980134710.0有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;V·伊万诺夫;E·鲁普斯特拉;V·克里夫特苏恩;G·斯温克尔斯;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-21 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射源(SO)配置成生成极紫外辐射。所述辐射源(SO)包括等离子体形成部位(2)，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束(5)接触而形成等离子体所在的位置；出口(16)，所述出口配置成允许气体出离辐射源(SO)；和污染物阱(23)，所述污染物阱至少部分地位于所述出口(16)内部。所述污染物阱(23)配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
辐射源光刻设备

[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法-CN200980128812.1无效
发明人： M·克拉森;R·格罗内维尔德;A·斯卓克肯;G·斯温克尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-15 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备(1)，包括：源模块(SO)，所述源模块包括收集器(CO)和辐射源(105)，所述收集器(CO)被配置成收集来自所述辐射源(105)的辐射；照射器(IL)，被配置成调节由所述收集器(CO)收集的辐射，且提供辐射束；和检测器(301)，设置成相对于所述照射器(IL)具有固定的位置关系，所述检测器(301)被配置成确定所述辐射源(105)相对于所述收集器(CO)的位置和所述源模块(SO)相对于所述照射器(IL)的位置。
辐射源光刻设备器件制造方法

[发明专利]辐射系统、辐射收集器、辐射束调节系统、用于辐射系统的光谱纯度滤光片以及用于形成光谱纯度滤光片的方法-CN200980120016.3有效
发明人： V·巴尼内;W·德勃伊;J·鲁普斯特拉;A·范帝杰赛欧东克;G·斯温克尔斯;J·范斯库特 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-05-05 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：一种辐射系统被配置以产生辐射束。所述辐射系统包括腔，所述腔包括：辐射源，被配置以产生辐射；辐射束发射孔阑；和辐射收集器，被配置以收集由所述源产生的辐射，且将所收集的辐射传递至所述辐射束发射孔阑。所述辐射收集器包括被配置以改善经由所述孔阑被发射的所述辐射的光谱纯度的光谱纯度滤光片。所述光谱纯度滤光片包括：基衬底；在所述基衬底上的多层堆叠，所述多层堆叠包括多个交替层和在所述多层堆叠的顶侧中的多个凹陷，所述凹陷被配置以允许具有所述第一波长的辐射在所述第一方向上被反射和在所述第二方向上反射具有所述第二波长的辐射；其中，所述凹陷被配置成使得它们的横截面具有对称性的轮廓。
辐射系统收集调节用于光谱纯度滤光以及形成方法

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