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[发明专利]温度调节系统-CN202080048754.8在审
发明人： G·纳齐博格鲁;N·P·沃特森;R·范德米瑞东克;S·G·布鲁斯特;D·M·G·P·W·雅各布斯;S·科塔帕里斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-06-18 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文中披露了一种用于在温度调节系统中使用的无源式流致振动减小系统，即无源式FIV减小系统，所述温度调节系统控制光刻设备内的至少一个部件的温度。这种FIV减小系统包括：导管，所述导管提供用于穿过所述系统的液体的流动路径；与所述导管成流体连接的液体填充腔室，其中经由所述导管的壁中的一个或更多个开口来提供所述流体连接；膜，所述膜被配置成使得所述膜将所述液体填充腔室中的液体与处于大致环境压力的气体分离，并且所述膜被配置成使得所述膜的顺应性至少减小流动穿过所述导管的液体中的低频FIV；以及端部止挡件，所述端部止挡件位于所述膜的气体侧，其中所述端部止挡件被配置成限制所述膜的偏转程度。
温度调节系统

[发明专利]衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法-CN202010300332.7在审
发明人： G·纳齐博格鲁;C·H·M·伯尔蒂斯;S·A·特姆普;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;D·D·J·A·范索姆恩;M·J·H·弗雷肯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。
衬底保持光刻设备制造器件方法

[发明专利]衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法-CN201680070006.3有效
发明人： G·纳齐博格鲁;C·H·M·伯尔蒂斯;S·A·特姆普;Y·J·G·范德维基沃尔;B·D·斯霍尔滕;D·D·J·A·范索姆恩;M·J·H·弗雷肯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-11-02 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。
衬底保持光刻设备制造器件方法

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201580038638.7有效
发明人： G·纳齐博格鲁;F·J·J·范鲍克斯台尔;T·P·H·沃马丹;J·S·C·维斯特尔拉肯;J·P·科洛斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：具有光轴(O)的投影系统(PS)；具有环境气体的外壳(EN)；及容纳于所述外壳中的物理部件(WT)，其中：所述光刻设备配置用于使所述物理部件沿预定方向(SC)且在垂直于所述光轴的平面内经历相对于所述外壳的移动；所述光刻设备配置用于使所述物理部件在移动期间维持相对于外壳的预定取向；所述移动引起了相对于部件的环境气体的流；所述物理部件具有取向成垂直于所述光轴的第一表面(1)；所述部件包括配置用于引导所述环境气体的流远离所述第一表面的流引导系统。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备及制造器件的方法-CN201680019191.3有效
发明人： G·纳齐博格鲁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-02-16 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：投影系统，配置成将所期望的图像投影到衬底上；主动模块(120)，产生随时间变化的热负荷；温度调节系统(100)，配置成将光刻设备的部件保持在预定的目标温度；和热缓冲器(110)，包括与主动模块热接触的相变材料，该相变材料具有通过所述随时间变化的热负荷使该相变材料经历相变的相变温度；其中在光刻设备的关键操作期间，该相变材料相对于投影系统是静止的。
光刻设备制造器件方法

[发明专利]台系统和光刻设备-CN201810554117.2在审
发明人： G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-25 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。
驱动系统传感器移动可移动主体偏转器系统支撑件光刻设备扰动光学传感器偏转区域传感器台系统反射移动

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN201580009245.3有效
发明人： G·纳齐博格鲁;M·范巴伦;F·J·J·范鲍克斯台尔;K·库依皮尔斯;J·G·高森;L·J·A·凡鲍克霍文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-01-20 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种包括阻挡系统(3)的光刻设备，及使用如所描述的光刻设备中的任一个的器件制造方法。所述阻挡系统用以维持阻挡装置(4)内的气体的受保护体积。可在所述光刻设备的不同部件相对于彼此而移动时维持所述受保护体积。所述阻挡系统可用于所述光刻设备内的不同部位中。所述阻挡装置的几何构型影响所述受保护体积如何高效地被维持，尤其是在高速的情况下。本发明的几何构型减少从所述阻挡装置外部进入所述受保护体积的环境气体的量。
光刻设备器件制造方法

[发明专利]光刻设备和方法-CN201580043589.6有效
发明人： G·纳齐博格鲁;S·考斯吉恩斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;E·范德帕斯奇;A·奈斯特;L·索桑娜 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-06-25 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。
驱动系统传感器移动可移动主体偏转器系统支撑件光刻设备扰动光学传感器偏转区域传感器反射移动