专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]单栅非易失性快闪存储单元-CN200710101654.3无效
  • B·陈;Y·W·胡;D·李 - 硅存储技术公司
  • 2007-03-12 - 2007-10-10 - H01L29/788
  • 一种具有单多晶硅栅、与常规的逻辑工艺相兼容的非易失性浮栅存储单元包括第一导电类型的衬底。第二导电类型的第一和第二区域在该衬底中,彼此间隔开以限定其间的沟道区域。第一栅与该衬底绝缘且位于该沟道区域的第一部分和第一区域之上,并且与其充分电容性耦接。第二栅与该衬底绝缘,且与该第一栅间隔开,并且位于沟道区域的与第一部分不同的第二部分之上,且与第二区域少量重叠或不重叠。
  • 单栅非易失性快闪存单元
  • [发明专利]NROM器件及其制造方法-CN200510108415.1有效
  • B·陈;D·李;Y·W·胡;B·叶 - 硅存储技术公司
  • 2005-10-08 - 2006-09-20 - H01L21/8246
  • 一种形成存储器件(以及所得到的器件)的方法,包括:在衬底上形成电子俘获介电材料;在介电材料上形成导电材料;在导电材料上形成材料间隔物;除去介电材料和导电材料的一部分,以形成设置在材料间隔物下面的片段;在具有不同于衬底的导电类型的第二导电类型的衬底中形成第一和第二间隔区域,其中具有在第一和第二区域之间延伸的沟道区,其中电介质和第一导电材料的片段设置在沟道区的第一部分上,用于控制其导电性;以及在沟道区的第二部分上形成与之绝缘的第二导电材料,用于控制其导电性。
  • nrom器件及其制造方法
  • [发明专利]基于软件的音频呈现-CN200610002511.2有效
  • B·陈 - 微软公司
  • 2006-01-05 - 2006-08-02 - H04N7/54
  • 描述了基于软件的音频呈现。一个特定的实现包括计算机可读介质,它被配置成测量外部时钟与音频时钟之间的第一漂移速率,直到漂移达到一个阈值。响应于该漂移达到阈值并且基于第一漂移速率,该实现操纵音频时钟,使它达到第二漂移速率,该第二漂移速率具有较小的值以及与第一漂移速率相反的极性。
  • 基于软件音频呈现
  • [发明专利]非易失浮栅存储单元及其阵列以及其形成方法-CN200410033398.5有效
  • B·陈;D·李;B·叶 - 硅存储技术公司
  • 2004-04-07 - 2004-10-20 - H01L27/105
  • 非易失存储单元具有第一导电类型的单晶半导体材料,如单晶硅。在半导体材料中形成每个为第二导电类型的彼此隔开的第一和第二区,所述第二导电类型不同于第一导电类型。具有第一部分和第二部分的沟道区连接第一和第二区用于传导电荷。电介质位于沟道区上。可以是导电的或不导电的浮栅位于电介质上,并与沟道区的第一部分隔开。沟道区的第一部分与第一区相邻,第一浮栅具有大体上的三角形状。浮栅形成在腔中。栅电极容性耦合到第一浮栅,并与沟道区的第二部分隔开。沟道区的第二部分位于第一部分和第二区之间。双向非易失存储单元具有每个均形成在腔中的两个浮栅。还公开了该非易失存储单元和阵列的制造方法。
  • 非易失浮栅存储单元及其阵列形成方法

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