专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于室盖冷却的方法和设备-CN202310318742.8在审
  • A·金蒂;A·法德尼斯;K·范德如里奥;T·菲茨杰拉德 - ASM IP私人控股有限公司
  • 2023-03-29 - 2023-10-17 - C23C16/44
  • 一种用于半导体处理的反应器系统,例如用于化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)和其他沉积步骤,其利用具有两个或更多个反应室的反应器模块。反应器系统包括冷却系统的部件,以在包围包含反应室的壳体或容器的室盖上提供增强的温度均匀性。部分地,冷却系统适于利用对流传热,并且包括位于反应室喷淋头的外部部分之间的中心空间中的室盖中心的带翅片的散热器。此外,冷却系统包括风扇,该风扇定位成使其出口位于中心空间并位于带翅片的散热器上方,使得空气被导入中心空间并到散热器上。
  • 用于冷却方法设备

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