专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]选择性蚀刻的方法-CN201811352456.9有效
  • R·鲁;C·波瑞特;A·弗拉 - IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
  • 2018-11-14 - 2021-05-25 - H01L21/3065
  • 一种相对于第二特征件选择性去除第一特征件的方法,所述第一特征件包含含Sn的第一IV族材料,所述第二特征件包含第二IV族材料,所述方法包括:在加工室中提供具有上表面的基板,其中第一特征件和第二特征件设置在上表面上,其中,含Sn的第一IV族材料包含掺杂元素,在加工室中对基板进行加热,并且随后;进行蚀刻处理,所述蚀刻处理包括:将蚀刻气体引入加工室,对基板施加蚀刻气体,其中,蚀刻气体是基于氯或基于溴的气体。
  • 选择性蚀刻方法

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