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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于高真空应用的微波传输窗-CN202180074326.7在审
发明人： R·K·普蒂;P·阿加瓦尔;A·朱普迪 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文公开了一种用于使用微波压力窗口组件将微波传输到处理腔室中的设备。该微波压力窗组件可包括第一板，该第一板具有第一孔隙，该第一孔隙由用于第一压力密封件的第一凹部围绕；第二板，该第二板具有第二孔隙，该第二孔隙由用于第二压力密封件的第二凹部围绕；介电板，该介电板被配置为传输微波并且插置在该第一板与该第二板之间以及在该第一压力密封件与该第二压力密封件之间。该孔隙包括在该孔隙的第一竖直侧上的第一竖直台阶区域和在该等孔隙的与第一竖直侧相对的第二竖直侧上的第二竖直台阶区域。该第一竖直台阶区域和该第二竖直台阶区域的厚度可为包括介电板凹部的板的厚度的约50％。
用于真空应用微波传输

[发明专利]具有冷却能力的固态功率放大器-CN202180052296.X在审
发明人： R·K·普蒂;V·拉马钱德兰;A·朱普迪;L·W·高 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H05B6/68 文献下载
摘要：用于处理基板的方法和设备。例如，处理腔室可包括：功率源；放大器，所述放大器连接至功率源，所述放大器包括氮化镓(GaN)晶体管或砷化镓(GaAs)晶体管中的至少一者，并且所述放大器被配置成放大从功率源接收的输入信号的功率水平以加热处理容积中的基板；以及冷却板，所述冷却板被配置成接收冷却剂以在操作期间冷却放大器。
具有冷却能力固态功率放大器

[发明专利]具有喷头的预清洁腔室上屏蔽件-CN202180029336.9在审
发明人： S·巴布;A·朱普迪;欧岳生;魏俊琪;K·T·M·莫;张康;和田优一 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本文提供用于在工艺腔室中使用的工艺套件。在一些实施例中，一种用于在工艺腔室中使用的工艺套件，包括：顶板，具有设置在所述顶板的上部表面中的中央凹槽；通道，从顶板的外部部分延伸至中央凹槽；多个孔洞，通过顶板设置，从中央凹槽的底部表面至顶板的下部表面；覆盖板，配置成耦合至顶板，并且沿着中央凹槽的周围形成密封，使得覆盖的凹槽在顶板内界定气室；以及管状主体，从顶板的下部表面向下延伸，并且环绕多个孔洞，管状主体进一步配置成环绕基板支撑件。
具有喷头清洁腔室上屏蔽

[发明专利]具有整合遮件库的预清洁腔室-CN201980029806.4有效
发明人： C-H·M·蔡;A·朱普迪;S·巴布;M·科帕;H·高滨 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本公开提供具有整合遮件库的基板处理腔室。在一些实施例中，预清洁基板处理腔室可包括腔室主体、基板支撑件、遮盘库及遮盘组件机构，其中腔室主体包括第一侧和第二侧，第一侧被配置成附接于主框架基板处理工具，第二侧与第一侧相对设置，基板支撑件被配置成当基板安置在基板支撑件上时支撑基板，遮盘库设置在处理腔室的第二侧上，遮盘组件机构包括可旋转的轴及耦接到该轴的机器人遮件臂，其中机器人遮件臂包括遮盘组件支撑部分，遮盘组件支撑部分被配置成支撑遮盘组件，且其中遮盘组件机构被配置成将该机器人遮件臂在储存位置与处理位置之间移动，该储存位置在该遮件库内，该处理位置在该处理腔室内且在该基板支撑件上方。
具有整合遮件库清洁

[发明专利]用于测量真空和微波环境中温度的设备-CN202080085544.6在审
发明人： A·朱普迪;S·K·科杜穆里;V·拉马钱德兰;P·阿加瓦尔;H·B·A·穆哈马德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于确定微波和/或真空环境中基板温度的设备。具有多个支撑销的基板保持器包括温度传感器组件，该温度传感器组件的至少一部分表面具有磷涂层，该温度传感器组件经配置为从基板保持器的内部区域插入至少一个销支撑位置中，并从基板保持器的外部区域插入至少一个销支撑位置中。温度传感器组件包括温度传感器销，其具有对微波透明的弹簧。温度传感器销由导热系数大于约200W/mK且具有对微波透明的低的热质量的材料制成。光学传输组件嵌入到基板保持器的至少一部分中，以接收来自温度传感器销表面的光发射。
用于测量真空微波环境温度设备

[发明专利]用于不同基板的共同静电吸盘-CN202080061576.2在审
发明人： V·拉马钱德兰;A·朱普迪;S·巴布 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种用于静电吸附各种基板材料的设备、方法和控制器。本公开内容的一些实施例提供具有可变极性和/或电压的静电吸盘。本公开内容的一些实施例提供了能够用作单极性和双极性静电吸盘的静电吸盘。本公开内容的一些实施例提供了双极性静电吸盘，双极性静电吸盘能够补偿基板偏压并且在不同电极处产生大约相等的吸附力。
用于不同共同静电吸盘

[发明专利]用于工艺腔室的高导通内部屏蔽物-CN202080060675.9在审
发明人： S·巴布;A·朱普迪;欧岳生;魏俊琪;K·莫;和田优一;张康 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：此处提供在工艺腔室中使用的工艺套件的实施例。在一些实施例中，一种用于在工艺腔室中使用的工艺套件，包括管状主体，所述管状主体具有配置成围绕基板支撑件的中心开口，其中管状主体的侧壁不包括任何通孔；以及顶板，所述顶板耦合至管状主体的上端，且实质上覆盖中心开口，其中顶板具有气体入口，且具有比管状主体的外直径要大的直径，且其中管状主体从顶板直向下延伸。
用于工艺高导通内部屏蔽

[发明专利]遮盘-CN202080062271.3在审
发明人：张康;魏俊琪;欧岳生;K·波;和田优一;A·朱普迪;S·巴布 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：描述用于物理气相沉积(PVD)的包括钛(Ti)、钡(Ba)、或铈(Ce)中的一者或多者的遮盘，所述遮盘允许粘贴以在基板的蚀刻期间最小化释气和控制缺陷。所述遮盘合并集气剂材料，所述集气剂材料对于包括O2、CO、CO2、和水的反应气体分子具有高度选择性。
遮盘

[发明专利]用于处理腔室的高传导性下部屏蔽件-CN202080060234.9在审
发明人： S·巴布;A·朱普迪;欧岳生;魏俊琪;K·莫;和田优一;张康 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本文提供在处理腔室中使用的处理套件的实施例。在某些实施例中，一种在处理腔室中使用的处理套件，包括环状环，配置成围绕基板支撑件；及环状唇部，从环状环的上部表面延伸，其中环状环包括多个环狭槽，延伸通过环状环且以规则间隔沿着环状环布置，且其中环状唇部包括多个唇部狭槽，延伸通过环状唇部、以规则间隔沿着环状唇部布置。
用于处理传导性下部屏蔽

[发明专利]使用非接触式温度测量来处理基板的方法及设备-CN202080058346.0在审
发明人： V·拉马钱德兰;A·朱普迪;蔡振雄;欧岳生;P·P·饶;R·高塔姆;P·阿加瓦尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G01J5/00 文献下载
摘要：提供了用于处理基板的方法和设备。例如，设备可包括：处理腔室，包含腔室主体并具有观察端口，腔室主体界定处理容积，观察端口耦接到腔室主体；基板支撑件，设置在处理容积内并具有支撑基板的支撑表面；及红外温度传感器(IRTS)，设置在腔室主体外侧、邻近观察端口，以测量该基板正在处理容积中被处理时的温度，IRTS可相对于观察端口移动以通过观察端口扫描基板。
使用接触温度测量处理方法设备

[发明专利]用于使用微波能量来处理基板的方法和设备-CN202080053846.5在审
发明人：高德丰;欧岳生;N·彦竹·陈;A·朱普迪;P·P·饶 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-04 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H05B1/02 文献下载
摘要：在本文中提供了用于处理基板的方法和设备。所述设备可包含，例如，微波能量源，所述微波能量源被配置成从设置在处理腔室的内部空间中的基板支撑件的下方提供微波能量；第一微波反射器，所述第一微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑件的基板支撑位置上方；以及第二微波反射器，所述第二微波反射器定位在基板支撑件上、在基板支撑位置下方，其中第一微波反射器和第二微波反射器的被定位和配置成使得在操作期间，微波能量穿过第二微波反射器，并且微波能量中的一些从第一微波反射器的底表面反射回到基板。
用于使用微波能量处理方法设备

[发明专利]用于聚合材料的微波处理的方法及装置-CN202080048211.6在审
发明人：高德丰;C·K·熊;欧岳生;F·邓;崔玥;陈彦竹;A·朱普迪;C·高;V·拉马钱德兰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： B29C35/08 文献下载
摘要：本文中提供了用于使用可变微波频率来固化基板或聚合物的方法及装置。在一些实施例中，一种使用可变微波频率来固化基板或聚合物的方法包括：使基板或聚合物与多个预定的不连续的微波能量带宽或多个预定的不连续的微波能量频率接触以固化所述基板或所述聚合物。
用于聚合材料微波处理方法装置

[发明专利]内嵌微波批量除气腔室-CN202080044325.3在审
发明人： R·高塔姆;A·朱普迪;高德丰;P·P·饶;V·拉马钱德兰;欧岳生;和田优一;蔡振雄;K·L·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文提供用于基板处理腔室的方法和设备。在一些实施例中，基板处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体具有侧壁，所述侧壁限定具有多边形形状的内部体积；设置在腔室主体的上部中的可选择性密封的细长开口以用于将一个或多个基板转移进入或离开腔室主体；设置在腔室主体的第一端处的漏斗，其中漏斗的尺寸沿着从腔室主体的外表面到内部体积的方向增大；以及设置在与漏斗相对的腔室主体的第二端处的泵端口。
微波批量气腔室

[发明专利]用于功率放大器中的热管理的水冷板-CN202080030612.9在审
发明人： R·高塔姆;A·朱普迪;V·拉马钱德兰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L23/367 文献下载
摘要：本文提供了用于固态功率放大器的冷却板的方法和设备。在一些实施例中，固态功率放大器的冷却板包括主体、多个孔及通道，该主体具有矩形形状、第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁与第四侧壁，该第一侧壁与该第二侧壁相对，该第三侧壁与该第四侧壁相对；该多个孔设置在该主体的第一侧上，该多个孔经配置为安装多个热产生微电子部件；该通道具有设置在该主体内的多个区段，且该通道从设置在第一侧壁上的第一端口延伸到设置在第一侧壁上的第二端口。
用于功率放大器中的管理水冷

[发明专利]具有翘曲基板功能的批量基板支撑件-CN201980029838.4在审
发明人： S·帕特尔;A·朱普迪;R·高塔姆 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本文提供了用于支撑基板的方法和设备。在一些实施例中，用于支撑多个基板的基板支撑件包括：多个基板支撑元件，其具有环形形状，且被配置为以垂直间隔关系支撑多个基板；以及多个基板举升元件，其与多个基板支撑元件交界，并且被配置为同时选择性地升高或降低基板而从相应的基板支撑元件上卸下基板或将基板置于相应的基板支撑元件上。
具有翘曲基板功能批量支撑

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