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[发明专利]基板处理系统及基板处理方法-CN202310359565.8在审
发明人： 高桥广毅;伊东伴;尹升镐;佐藤航平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种能够将不会在处理液的供给线路的中途产生尺寸大的气泡且包含高浓度的微细气泡的处理液向被处理基板供给的基板处理系统和基板处理方法。提供具备气体溶解水生成箱(51)，药液稀释模块(52)和基板处理模块的基板处理系统(50)。基板处理模块具备向基板(W)供给处理液的处理液供给喷嘴。处理液供给喷嘴具有从稀释药液产生气体的微细气泡的减压开放部。处理液供给喷嘴在对基板(W)进行擦洗处理的工序中供给包含微细气泡的稀释药液。
处理系统方法

[发明专利]基板处理装置及控制方法-CN202211695806.8在审
发明人：佐藤航平;高桥广毅 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及控制方法，基板处理装置具备：第一模块，该第一模块在基板处理工序中使用；第二模块，该第二模块在该第一模块之后的基板处理工序中使用；喷嘴，该喷嘴设置于该第二模块，并用于供给对象处理液；温度检测器，该温度检测器对该喷嘴的内部的处理液的温度或该喷嘴的温度进行检测；基板检测传感器，该基板检测传感器用于对基板的位置进行检测；以及控制器，该控制器根据由该温度检测器检测出的处理液的温度和该基板的位置，对基板输送到该第二模块之前实施的该对象处理液从该喷嘴的排出进行控制。
处理装置控制方法

[发明专利]基板清洗装置及处理装置、磨合装置、微粒数的推定方法、污染程度及磨合处理的判定方法-CN202210651856.X在审
发明人： 高桥广毅;近藤大地;今村勇翔 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明是监视清洗部件的污染程度的基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗部件的污染程度判定方法、能够对附着于基板的微粒数进行推定的基板清洗装置、基板处理装置以及附着于基板的微粒数的推定方法。该基板清洗装置具备：保持基板的基板保持部；与被保持的所述基板滑动接触且使用从第一喷嘴供给的第一清洗液清洗所述基板的基板清洗部件；在从所述基板保持部离开的退避位置处与所述基板清洗部件滑动接触，并使用从第二喷嘴供给的第二清洗液自清洗所述基板清洗部件的自清洗部件；测量用于所述基板清洗部件的自清洗的所述第二清洗液的排液的物性值的测量单元；以及基于所述排液的物性值来推定附着于清洗后的基板的微粒数的控制部。
清洗装置处理磨合微粒推定方法污染程度判定

[发明专利]基板清洗系统及基板清洗方法-CN202080084954.9在审
发明人： 高桥广毅;佐藤航平;深谷孝一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明关于一种清洗基板的基板清洗系统及基板清洗方法。基板清洗系统(50)具备加热器(51)、药液稀释模块(52)及清洗模块。通过药液稀释模块(52)混合后的稀释药液的温度被决定为高于常温的温度且低于清洗部件的玻璃化转变温度的温度。在将具有所决定的温度的稀释药液供给至基板(W)的状态下，清洗部件对基板(W)进行擦洗。
清洗系统方法