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- [发明专利]半导体工艺及其半导体结构-CN201210229720.6有效
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郭志明;何荣华;林恭安;陈昇晖
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颀邦科技股份有限公司
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2012-07-04
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2014-01-22
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H01L21/768
- 本发明是有关于一种半导体工艺,其包含提供一个基板,该基板具有金属层,该金属层包含有第一金属层及第二金属层,该第一金属层具有多个第一基底区及多个第一外侧区,该第二金属层具有多个第二基底区及多个第二外侧区;形成第一光刻胶层;形成多个承载部;移除该第一光刻胶层;形成第二光刻胶层;形成多个导接部,各该导接部具有第一接合层及第二接合层,各该第一接合层连接各该承载部;移除该第二光刻胶层以显露出所述导接部及所述承载部;移除所述第一外侧区;回焊所述第二接合层,以使所述第二接合层覆盖所述第一接合层以形成多个混成凸块;以及移除所述第二外侧区,以使所述第一基底区及所述第二基底区形成多个凸块下金属层。
- 半导体工艺及其结构
- [实用新型]半导体结构-CN201220713058.7有效
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施政宏;谢永伟;王凯亿
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颀邦科技股份有限公司
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2012-12-20
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2013-08-07
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H01L23/498
- 本实用新型是有关于一种半导体结构,其包含硅基板、多个第一凸块下金属层、多个第一缓冲层、支撑层以及多个导接部,该硅基板具有多个导接垫及保护层,该些第一凸块下金属层覆盖该保护层及该些导接垫,各该第一凸块下金属层具有第一环壁,各该第一缓冲层分别形成于各该第一凸块下金属层上,各该第一缓冲层具有接合部、包埋部及第二环壁,该支撑层形成于该保护层、该些第一凸块下金属层及该些第一缓冲层上,该支撑层包覆各该第一环壁、各该第二环壁及各该包埋部,各该导接部覆盖各该接合部。
- 半导体结构
- [发明专利]凸块制造工艺及其结构-CN201110423997.8有效
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郭志明;邱奕钏;何荣华
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颀邦科技股份有限公司
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2011-12-13
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2013-06-19
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H01L21/60
- 本发明有关一种凸块制造工艺及其结构。其中的凸块制造工艺其包含提供一硅基板,该硅基板具有多个焊垫;形成一含钛金属层于该硅基板,该含钛金属层具有多个第一区及第二区;形成一光阻层于该含钛金属层;图案化该光阻层以形成多个开槽;形成多个凸块底部包覆层于该含钛金属层上;形成多个铜凸块于上述开槽内;进行一加热步骤;形成多个凸块外部包覆层,以使各该凸块外部包覆层连接各该凸块底部包覆层,并完全包覆各该铜凸块以形成一凸块包裹层;形成多个接合层于各该凸块外部包覆层;移除该光阻层;以及移除该含钛金属层的上述第二区,并使该含钛金属层的各该第一区形成为一凸块下金属层。本发明提供的技术方案能够避免短路情形的出现。
- 制造工艺及其结构
- [发明专利]具有弹性凸块的基板结构及其制造方法-CN201110240235.4无效
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谢庆堂
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颀邦科技股份有限公司
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2011-08-18
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2013-03-06
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H01L23/498
- 本发明是有关于一种具有弹性凸块的基板结构,包含一基板、多个绝缘凸块本体以及一金属层,该基板具有一表面、一线路层及一保护层,该线路层具有多个导接端,各该导接端具有一外侧壁及一上表面,该保护层具有多个开口,各该开口具有一内侧壁,其中该内侧壁及该外侧壁之间具有一第一容置空间,各该绝缘凸块本体具有一顶面、一内侧面及一外侧面,各该绝缘凸块本体有一第一本体部及一第二本体部,该第一本体部具有一第一宽度,该第二本体部位于该第一本体部上方且凸出于该保护层,该内侧壁及该外侧壁之间具有一第二宽度,该第二宽度不小于该第一宽度,该金属层形成于各该绝缘凸块本体的该顶面、该内侧面及各该导接端的该上表面。
- 具有弹性板结及其制造方法
- [实用新型]半导体结构-CN201220380055.6有效
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郭志明;何荣华;张世杰;黄家晔;谢庆堂
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颀邦科技股份有限公司
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2012-08-01
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2013-02-13
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H01L23/488
- 本实用新型是有关于一种半导体结构,其包含有载体以及多个混成凸块,该载体具有表面及多个凸块下金属层,上述混成凸块形成于上述凸块下金属层上,各该混成凸块具有芯部及接合部,该芯部具有顶面,该接合部包含有第一接合层及第二接合层,该第一接合层形成于该芯部的该顶面及该凸块下金属层,其中该第一接合层具有基底部、凸出部及容置空间,该基底部具有上表面,该凸出部凸出于该上表面,且该凸出部位于该芯部上方,该容置空间位于该凸出部外侧,该第二接合层覆盖该凸出部及该上表面且填充于该容置空间。
- 半导体结构
- [发明专利]凸块制造工艺及其结构-CN201110194648.3有效
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谢庆堂;郭志明
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颀邦科技股份有限公司
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2011-07-08
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2013-01-09
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H01L21/60
- 本发明有关一种凸块制造工艺及其结构。其中制造工艺包括:提供一基板;形成一含铜金属层于该基板,含铜金属层具有第一区及第二区;形成一光阻层于含铜金属层;图案化光阻层;形成铜凸块且各铜凸块具有一第一顶面;形成一导接层于第一顶面,该导接层具有一第二顶面;移除光阻层;移除第二区,并使第一区形成一凸块下金属层,各凸块下金属层具有一第一外周壁,各铜凸块具有一第二外周壁,导接层具有一第三外周壁;形成一防游离层,防游离层具有一覆盖基板的第一覆盖段、一覆盖第一外周壁、第二外周壁及第三外周壁的第二覆盖段、一第三覆盖段及一移除段是覆盖该第二顶面;形成一介电层于防游离层;图案化该介电层;及移除该移除段以显露该第二顶面。
- 制造工艺及其结构
- [实用新型]微细间距凸块结构-CN201220058795.8有效
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施政宏;谢永伟;林淑真;林政帆;戴华安
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颀邦科技股份有限公司
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2012-02-22
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2013-01-02
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H01L23/488
- 本实用新型是有关于一种微细间距凸块结构,其至少包含:一硅基板、多个凸块下金属层、多个铜凸块、多个凸块保护层及多个可润湿层,该硅基板具有多个焊垫,该些凸块下金属层形成于该些焊垫上,各该凸块下金属层具有一凸块承载部及一延伸部,该些铜凸块形成于该些凸块下金属层上,且各该铜凸块具有一第一顶面及一环壁,该些凸块保护层形成于该些凸块下金属层的该些延伸部、各该铜凸块的该第一顶面及该环壁上,各该凸块保护层具有一凸块覆盖部及一金属层覆盖部,各该凸块覆盖部包覆各该铜凸块的该第一顶面及该环壁,且该凸块覆盖部具有一第二顶面,各该金属层覆盖部覆盖各该延伸部,该些可润湿层形成于该些凸块覆盖部的该些第二顶面上。
- 微细间距结构
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