专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果12个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]用于光束的相位波前的选择性成形的设备及其应用-CN201880063225.8有效
  • M·罗伊斯;J·菲舍尔 - 阿贝里奥仪器有限责任公司
  • 2018-08-02 - 2022-06-28 - G02B5/30
  • 一种用于使沿着光轴(11)入射的第一光束(57)的相位波前选择性地成形的设备(1),该第一光束具有与光轴(11)正交地延伸的第一线性输入偏振方向,该设备具有双折射光学材料(14‑17,26,33)。设备(1)使第一光束(57)的第一相位在设备(1)的不同的部分区域(3‑6)中不同地延迟,并且不使沿着光轴(11)入射的第二光束(58)的第二相位在不同的部分区域(3‑6)中不同地延迟,该第二光束具有正交于第一线性输入偏振方向和光轴(11)的第二输入偏振方向。所述不同的部分区域(3‑6)在围绕光轴(11)的方向(12)上彼此相继,其中,双折射光学材料(14‑17,26,33)布置在所有或除了在所述不同部分区域(3‑6)中的一个之外的所有不同部分区域中。双折射光学材料(14‑17,26,33)使具有所述第一输入偏振方向的第一光束(57)在相位方面以在光轴(11)的外周上在方向(12)上从部分区域(3‑6)到部分区域(3‑6)地增加的度量发生延迟。
  • 用于光束相位选择性成形设备及其应用
  • [发明专利]用于在荧光显微技术中像差校正的方法和装置-CN202080071381.6在审
  • M·罗伊斯;J·海涅;C·武尔姆 - 阿贝里奥仪器有限责任公司
  • 2020-10-12 - 2022-05-27 - G02B21/00
  • 在用于三维扩展的样本的显微图像采集的方法中,在第一步骤(1)中、通过利用聚焦的激励光分布在与显微物镜的光轴平行的截面中扫描样本实现采集与显微物镜的光轴平行的第一截面图。在此,借助于可调设的校正机构按照像差校正函数的初始调设参数校正激励光分布;且在每个扫描位置探测从样本发出的荧光。在第二步骤(2)中实现第一截面图的分析处理。在第三步骤(3)中实现确定像差校正函数的新的调设参数。在第四步骤(4)中,通过利用聚焦的激励光分布扫描样本实现采集另外的图像数据,其中借助于可调设的校正机构按照像差校正函数的新的调设参数校正该激励光分布,且其中在每个扫描位置探测从样本发出的荧光。
  • 用于荧光显微技术中像差校正方法装置
  • [发明专利]调整在显微镜中使用的估计器的方法、计算机程序和装置-CN202110901061.5在审
  • R.施密特 - 阿贝里奥仪器有限责任公司
  • 2021-08-06 - 2022-02-18 - G01N21/64
  • 本发明涉及一种方法、一种计算机程序和一种装置,其用于调整在显微镜中使用的估计器,以用于基于在一组或多组探测位置处用光照射样本并针对该组探测位置获取荧光光子的方法来估计样本中的发射体的位置。本发明还涉及一种利用这种调整方法或装置的显微镜。根据本发明,样本在一组或多组探测位置处被用光照射(S1),并且针对该组探测位置获取(S2)荧光光子。然后,将所获取(S2)的光子的光子计数添加(S3)到针对该组探测位置确定的光子计数向量或光子计数总和中。随后,从光子计数向量或光子计数总和确定(S4)代表背景噪声的值。然后,代表背景噪声的值用于实时调整(S5)估计器。
  • 调整显微镜使用估计方法计算机程序装置
  • [发明专利]扫描头以及带有扫描头的装置-CN201610898147.6有效
  • J·菲舍尔;M·亨里希;G·唐纳特;M·罗伊斯 - 阿贝里奥仪器有限责任公司
  • 2016-10-14 - 2021-11-30 - G02B21/00
  • 一种用于高分辨率扫描荧光显微检查的扫描头,包括:第一连接器,其将扫描头连接至光显微镜;第二连接器,其将扫描头连接至光源和荧光检测器;光束整形器,其将来自光源的光的第一部分整形为光显微镜的聚焦下的第一光强分布以及将所述光的第二部分整形为光显微镜的聚焦下的第二光强分布,所述第一光强分布具有由强度最大值包围的强度最小值,所述第二光强分布在第一光强分布的强度最小值的方位处具有最大强度;四个倾斜镜,其配置成利用光束对样本扫描;以及偏转器,其将荧光偏转至第二光学波导端口。
  • 扫描以及带有装置
  • [发明专利]用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备-CN201680061985.6有效
  • A·舍恩勒;C·武尔姆;B·哈尔克;G·唐纳特 - 阿贝里奥仪器有限责任公司
  • 2016-10-14 - 2021-03-09 - G01N21/64
  • 为了对试样的以荧光记号标记的结构进行高分辨率成像,以光强度分布加载所述试样,在所述光强度分布中,聚焦的荧光激发光(14)的强度极大值与聚焦的荧光阻抑光(19)的由一些强度极大值包围的强度极小值叠加成光强度分布(22)。在此,以所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值选择性地扫描所述试样的感兴趣的部分区域,其中,记录从所述试样发射的荧光(15)以及将其与所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值在所述试样中的相应的位置相对应。对于所述聚焦的荧光阻抑光(19)的强度极小值的相应的位置,当已记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最大光量时,和/或,当在预给定的时间段之内还未记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最小光量时,至少中断所述试样的以所述光强度分布(22)的聚焦的荧光阻抑光(19)的加载。选择所述试样的感兴趣的部分区域,其方式是,使聚焦的荧光激发光在无荧光阻抑光(19)的情况下对准所述试样,其中,记录从所述试样发射的荧光(15),其中,如果对于所述试样的一部分区域在预给定的测试时间段(Δt1)之内已记录从所述试样发射的荧光(15)的预给定的最小光量(LM1),则将所述试样的所述部分区域定义为感兴趣的部分区域。
  • 用于试样荧光记号标记结构高分辨率成像方法设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top