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[发明专利]用于制备超吸收性聚合物的方法-CN202080013274.8有效
发明人：金圭八;闵庚勋;金琪哲;闵允栽;金起贤 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C08J3/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于制备超吸收性聚合物的方法。根据用于制备超吸收性聚合物的方法，改善含水量以防止超吸收性聚合物根据外部变化的表面特性变化，并且减少产生的细粉的量以改善使用超吸收性聚合物制造制品期间的可加工性。
用于制备吸收性聚合物方法

[发明专利]具有三层结构的供给间隔件和包括其的反渗透膜过滤模块-CN202211487554.X在审
发明人：李娥英;金大宪;金汎柱;申程圭;李弼;闵庚勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-10-17 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： B01D61/10 文献下载
摘要：本发明涉及具有三层结构的供给间隔件和包括其的反渗透膜过滤模块。本发明提供一种具有三层结构的供给间隔件，包括：其中复数根线平行定位的第一组；与所述第一组交叉并且由复数根平行线形成的第二组；和平行于原水的方向定位并且由复数根平行线形成的第三组，其中所述第三组定位在所述第一组和所述第二组之间或者定位在所述第一组和所述第二组中的任一者的一侧处。本发明允许减少反渗透过滤模块的极化现象并使压力损失最小化。
具有三层结构供给间隔包括反渗透过滤模块

[发明专利]半导体器件及其制造方法-CN202210773731.4在审
发明人：金承焕;闵庚勋;陈一燮 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： H01L27/105 文献下载
摘要：一种用于制造半导体器件的方法，包括：形成刻蚀停止件焊盘，所述刻蚀停止件焊盘包括在衬底之上的牺牲插塞和在牺牲插塞之上的牺牲焊盘；在刻蚀停止件焊盘之上形成刻蚀目标层；通过刻蚀该刻蚀目标层并在牺牲焊盘处停止刻蚀来形成多个开口；通过开口去除牺牲焊盘和牺牲插塞来形成气隙；以及形成填充开口和气隙的间隙填充层。
半导体器件及其制造方法

[发明专利]晶片棱角缺陷检查装置和检查方法-CN202080096090.2在审
发明人： 闵庚勋 -专利权人：科美科技株式会社
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够准确地检查晶片的棱角缺陷的晶片棱角缺陷检查装置和检查方法，具体地，包括：板材形状的晶片，固定晶片的夹持部以及检测晶片棱角的缺陷的边缘检测部。
晶片棱角缺陷检查装置方法

[发明专利]包括用于防止UV光透射板的污染的空气注入模块的光聚合反应系统-CN201980019943.X有效
发明人：金孝订;闵庚勋;周垠廷;林艺勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： C08F2/01 文献下载
摘要：根据本公开内容的实施方案的光聚合反应系统可以包括：UV灯；设置在UV灯下方的UV光透射板；和通过其供应和排出用于从UV灯去除热的空气的通风部，其中反应物被供应在UV光透射板下方并发生光聚合反应，光聚合反应系统还包括空气注入模块，所述空气注入模块被配置成将通过通风部供应的空气的一部分注入在UV光透射板与反应物之间以防止UV光透射板被由光聚合反应产生的副产物污染。
包括用于防止 uv 透射污染空气注入模块聚合反应系统

[发明专利]板材缺陷检测方法及装置-CN202080078549.6在审
发明人： 闵庚勋 -专利权人：科美科技株式会社
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶片等板材的缺陷检测方法和装置，具体地，板材缺陷检测方法包括以下时间序列步骤：安装步骤(S100)，将板材(200)安装于检查装备(10)；检查步骤(S200)，在所述安装步骤之后，检查板材表面(210)和内部(220)；以及判定步骤(S300)，在所述检查步骤之后，在控制单元(400)判定缺陷的位置、大小和形态。板材缺陷检测装置包括：面板安装单元(100)，形成有固定面板的多个夹具；拍摄单元(600)，位于所述面板安装单元的一侧，拍摄面板的表面(210)；以及控制单元(400)，接收所述拍摄单元影像，并判定缺陷。
板材缺陷检测方法装置

[发明专利]校正用面板、面板检查用校正装置以及面板检查装置的校正方法-CN202080073573.0在审
发明人： 闵庚勋 -专利权人：科美科技株式会社
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明涉及一种自动检测板材表面、内部的凹槽或突起信息的装置，涉及一种为了防止设备的误差定期校正设备的装置，一种用于校正的校正用面板，以及一种设备的校正方法。具体地，校正用面板包括：面板(100)，其为板材形状，且两面平行；基准标记(110)，其形成于所述面板的一面或两面；以及人工缺陷(130)，其形成于所述面板的内部或表面。
校正面板检查装置以及方法

[发明专利]斜槽型单体分配器-CN201880065317.X有效
发明人：金善英;郑永哲;林艺勋;宋永秀;闵庚勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B01J4/00 文献下载
摘要：本文公开了斜槽型单体分配器，其包括：斜槽分配器，所述斜槽分配器被安装成相对于聚合装置的方向倾斜，通过注入管向聚合装置注入单体，并且具有在斜槽分配器的上部处敞开的注入部；以及注入器，所述注入器向注入部注入引发剂和发泡剂。
斜槽单体分配器

[发明专利]进料侧间隔件和分离膜元件-CN202080042973.5在审
发明人：金泰亨;金大宪;朴泰泳;李弼;闵庚勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B01D63/10 文献下载
摘要：本说明书提供了进料侧流动通道构件和包括其的分离膜元件。
进料间隔分离元件

[发明专利]供给间隔件和包括其的反渗透过滤模块-CN201880034558.8有效
发明人：金大宪;李娥英;闵庚勋;金汎柱;林艺勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： B01D61/10 文献下载
摘要：本发明涉及供给间隔件和包括其的反渗透过滤模块，并且更特别地，涉及这样的供给间隔件和包括其的反渗透过滤模块，在所述供给间隔件中根据原水的流动方向在一个供给间隔件中不同地形成线的角，以便将压差减小区和回收率增加区分离以执行多种功能。
供给间隔包括反渗透过滤模块

[发明专利]用于降低反渗透元件的压差的进料间隔件和形成喷嘴-CN202080023229.0在审
发明人：金泰亨;朴泰泳;李弼;金大宪;闵庚勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2020-03-17 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B01D61/08 文献下载
摘要：本发明涉及用于降低反渗透元件中的压差的进料间隔件和用于形成其的喷嘴，并且更特别地，涉及其中构成反渗透元件的进料间隔件的截面具有菱形形状，使得通过原水在反渗透膜的界面处的有效流动使进料间隔件中的压力损失最小化的用于降低反渗透元件中的压差的进料间隔件和用于形成所述进料间隔件的喷嘴。
用于降低反渗透元件进料间隔形成喷嘴

[发明专利]粘度测量装置-CN201580068556.7有效
发明人： 闵庚勋;朴城贤;林艺勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2015-12-18 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G01N11/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种粘度测量装置。根据本发明的一个方面，提供一种粘度测量装置，包括：壳体，该壳体具有入口、出口和位于入口和出口之间的测量空间；磁体，设置在所述测量空间中；电磁体，用于使所述磁体移动；位置测量部，用于测量所述磁体的位置；流量测量部，用于测量流入所述测量空间的流体的流量；以及控制部，基于由所述电磁体产生的磁场的强度和通过所述测量空间的流体的剪切应变速率测量流体的粘度。
测量空间流体粘度测量装置电磁体壳体测量流量测量部位置测量部磁体移动剪切应变速率测量磁场出口

[发明专利]具有三层结构的供给间隔件和包括其的反渗透膜过滤模块-CN201880029524.X在审
发明人：李娥英;金大宪;金汎柱;申程圭;李弼;闵庚勋 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2018-10-17 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： B01D61/10 文献下载
摘要：本发明涉及供给间隔件，更特别地涉及具有三层结构的供给间隔件，其中形成供给间隔件的组形成为三层结构，使得与反渗透膜接触的组将原水对流到供给间隔件的结构的中心并且在该中心处产生层流速度梯度以减少反渗透过滤模块的极化现象并使压力损失最小化；以及包括其的反渗透膜过滤模块。
间隔件反渗透膜过滤模块三层结构层流速度极化现象压力损失反渗透中心处最小化原水对流

[发明专利]用于消除异质玻璃的装置以及包含所述装置的玻璃制造装置-CN201480019771.3有效
发明人： 闵庚勋;林艺勋;文元载;李志燮 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2014-09-03 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： C03B5/26 文献下载
摘要：公开了一种用于有效地消除存在于熔融玻璃的顶表面上的异质玻璃的装置，以及包括所述装置的一种熔化炉和一种玻璃制造装置。根据本发明一方面的所述用于消除异质玻璃的装置包括：存储槽，所述存储槽具有入口和出口以便接收从所述入口流入的熔融玻璃以及允许所接收的熔融玻璃经由所述出口流出，并且在其上端形成有排出口，以便允许所接收的熔融玻璃溢出；第一闸门，所述第一闸门设置在所述存储槽的所述出口的一侧，并且调整开放面积，从而调整经由所述出口流出的熔融玻璃的流速；以及，第二闸门，相比起排出口，所述第二闸门设置在靠近所述存储槽的所述入口的一侧，并且在形成有排出口的部分调整接收在所述存储槽中的熔融玻璃的液面水平。
熔融玻璃存储槽闸门排出口异质玻璃制造装置玻璃出口流出液面水平上端顶表面熔化炉有效地溢出开放

[发明专利]包含阻挡件的气刀腔-CN201180034690.7有效
发明人：朴寿赞;林艺勋;闵庚勋 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2011-07-14 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：公开了一种被构造为允许沿着隔断墙向下流的水在裂缝前方落下的气刀腔。由于这种构造，使得能够通过气刀有效地去除水，从而有助于降低基板的缺陷比例。
包含阻挡气刀腔

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