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[发明专利]显示屏保护膜的制备工艺-CN202211670130.7在审
发明人：金闯;耿龙飞;苏强强;金文祥;蒋晓明 -专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示屏保护膜的制备工艺，包括以下步骤：在基材层涂布硬化涂层的胶水，经过热干燥、UV固化后形成硬化涂层；将聚氨酯丙烯酸树脂5~10份、二季戊四醇六丙烯酸酯2~4份、溶剂120~200份在室温下搅拌混合形成第一混合液；将第一混合液、中空二氧化硅、丙烯酸六氟丁酯、聚乙烯吡咯烷酮、甲基丙烯酸十三氟辛酯混合均匀形成第二混合液；再将光引发剂加入第二混合液过滤获得涂覆液；将涂覆液涂覆于硬化涂层表面烘烤形成抗反射涂层。本发明获得的显示屏保护膜减少了表面的表面能，将含氟材料会缓慢的上升到表面，表面含氟数量越多，动摩擦系数越小，改善了抗反射涂层的爽滑感。
显示屏保护膜制备工艺

[发明专利]抗反射膜-CN202211670153.8在审
发明人：金闯;耿龙飞;苏强强;金文祥;蒋晓明 -专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗反射膜，包括基材层、位于基材层表面的硬化涂层和位于硬化涂层与基材层相背表面的抗反射涂层，此抗反射涂层由涂覆液烘烤获得，此涂覆液以下重量份数的组分组成：聚氨酯丙烯酸树脂5~10份、二季戊四醇六丙烯酸酯2~4份、中空二氧化硅1~2份、丙烯酸六氟丁酯1~3份、聚乙烯吡咯烷酮0.2~0.5份、甲基丙烯酸十三氟辛酯0.15~0.4份、光引发剂0.03~0.08份、溶剂120~200份。本发明抗反射膜减少了表面的表面能，将含氟材料会缓慢的上升到表面，表面含氟数量越多，动摩擦系数越小，改善了抗反射涂层的爽滑感。
反射

[发明专利]研磨方法、研磨控制系统及研磨系统-CN202310826828.1有效
发明人： 金文祥;周启航;李阿龙 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-07-07 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种研磨方法、研磨控制系统及研磨系统。研磨方法包括：获取第一研磨平台及第二研磨平台对待研磨层的整体研磨去除速率；获取第三研磨平台对待研磨层的研磨去除速率；基于待研磨层的研磨去除总量、整体研磨去除速率及第三研磨平台对待研磨层的研磨去除速率，得到目标研磨时间；使用第一研磨平台、第二研磨平台及第三研磨平台依次对待研磨层进行研磨，第一研磨平台的研磨时间、第二研磨平台的研磨时间及第三研磨平台的研磨时间均为目标研磨时间。上述研磨方法可以提升第一研磨平台、第二研磨平台及第三研磨平台对待研磨层研磨的时间控制，可以有效避免第三研磨平台对待研磨层过研磨，从而提高产品的良率。
研磨方法控制系统系统

[发明专利]防眩光膜及其制备方法-CN202310697772.4在审
发明人：金闯;张敬杰;景志孟;金文祥;耿龙飞 -专利权人：太仓斯迪克新材料科技有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种防眩光膜及其制备方法，该方法包括以下步骤：S1、将单分散聚甲基丙烯酸甲酯颗粒和纳米碳材料加入溶剂中，在加热下超声处理进行溶胀包封；然后离心、弃上清液，沉淀用乙醇冲洗，干燥后得到包覆纳米碳材料的聚甲基丙烯酸甲酯光散射颗粒；S2、将上述颗粒分散在溶剂中，再加入UV固化预聚树脂、反应性单体和光引发剂，搅拌均匀后得到UV固化的防眩光涂料液；S3、将防眩光涂料液涂布在基膜上，固化后得到防眩光膜。本发明采用溶胀包封法制备了一种含有吸光散射复合功能的聚合物复合颗粒，将其作为吸光组分添加到防眩光涂料液中，使制备的膜材料具有优异的防眩光性和一定的吸光性，能有效缓解液晶显示器屏幕的白光和眩光问题。
眩光及其制备方法

[发明专利]耐磨反射膜-CN202310572061.4在审
发明人：金闯;耿龙飞;苏强强;金文祥 -专利权人：太仓斯迪克新材料科技有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-05-19 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐磨反射膜，包括基材、硬化涂层、低折射率涂层；其中，所述基材包括PET；其中，所述硬化涂层的折射率为1.53，厚度为3~5微米；其中，所述低折射率涂层的厚度为90~110纳米；其中，所述耐磨反射膜的制备方法包括如下步骤：S1：硬化胶水通过狭缝或微凹辊涂布在基材上，然后经过热干燥、UV固化形成硬化膜；S2：在硬化膜的基础上继续涂布低折胶水，然后经过热干燥、UV固化形成抗反射膜；所述硬化胶水中的引发剂为184引发剂和TPO引发剂的复合引发剂，184引发剂：TPO引发剂的比例为3~5：1。本发明耐磨反射膜在提高了抗反射能力的同时，增加了硬化层与低折层之间的结合力，提高耐磨性。
耐磨反射

[发明专利]耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法-CN202310793409.2在审
发明人：金闯;金文祥;耿龙飞;苏强强;张敬杰 -专利权人：太仓斯迪克新材料科技有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备方法，该保护膜包括依次层叠设置的基材、柔性硬化层和低反射涂层；所述柔性硬化层通过在所述基材层上涂布柔性硬化涂液后经固化得到。本发明提供了一种耐弯折高耐磨低反射保护膜及其制备工艺，本发明中通过主要原料配比的优化、工艺的优化调整以及原料与工艺的配合，能实现产品综合性能的较好平衡，产品的耐弯折性能、断裂伸长率及钢丝绒耐磨等性能均能达到较优的水平；耐磨次数能达到1000g/2000次，弯折次数能达到30w次，可以满足客户对耐弯折和耐磨性能的提升要求，具有广阔的应用前景。
耐弯折高耐磨反射保护膜及其制备方法

[发明专利]防眩膜及其制备方法和显示装置-CN202210190421.X有效
发明人：金闯;葛建峰;耿龙飞;陆平;苏强强;金文祥;蒋晓明 -专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本发明涉及一种防眩膜及其制备方法和显示装置，该防眩膜具有防眩功能层；防眩功能层的制备原料按重量份数计包括如下组分：UV固化性树脂100份、无机填料5～45份、防眩功能性粒子20～40份、光聚合引发剂0.1～10份及溶剂10～99份；其中，UV固化性树脂包括重量比为10：(1～8)的活性丙烯酸酯低聚物和多官能度丙烯酸酯单体，防眩功能性粒子包括单分散的粒径为1～3μm的第一有机防眩粒子和单分散的粒径为3～6μm的第二有机防眩粒子，第一有机防眩粒子占第一有机防眩粒子和第二有机防眩粒子二者总质量的70％～95％，防眩功能层的厚度为3～7μm。该防眩膜的防眩性较好且兼具高耐磨性、低闪点、高硬度。
防眩膜及其制备方法显示装置

[发明专利]晶圆研磨的控制方法、装置、计算机设备和存储介质-CN202310883991.1在审
发明人： 金文祥;卜立一;关徐东 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本申请涉及一种晶圆研磨的控制方法、装置、计算机设备和存储介质。所述晶圆研磨的控制方法包括：获取待研磨晶圆的研磨压力与研磨速率之间的第一映射关系；获取预设晶圆中心区域的第一研磨参数以及所述预设晶圆边缘区域的第二研磨参数；所述第一研磨参数和所述第二研磨参数分别包括研磨阶段的研磨时长；根据所述第一映射关系和目标研磨参数反馈调节待研磨晶圆边缘区域的研磨压力，其中，所述预设晶圆与所述待研磨晶圆的研磨特性符合一致性条件，目标研磨参数包括所述第一研磨参数和所述第二研磨参数中的至少一种。采用本方法能够避免半导体器件的可靠性降低。
研磨控制方法装置计算机设备存储介质

[实用新型]固废处理装置-CN202223452726.8有效
发明人：金闯;耿龙飞;陆平;周晓忱;金文祥 -专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： F23G5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种固废处理装置，其位于箱体内部且在进料口正下方设置有一具有通孔的过滤板，该过滤板以倾斜的方式设置，位于此过滤板的底端与第一出料口之间设置一开设有第二出料口的分隔板，位于第一出料口与第二出料口之间设置有一具有透风条的干燥摇篮，此干燥摇篮通过一转轴与箱体内壁转动连接，一电机的输出轴与转轴固定连接，此电机安装在箱体外壁上，位于干燥摇篮下方设置有一热风机，该热风机的顶部具有若干个出风口，在箱体底部且位于热风机下方设置有若干个入风口。本实用新型固废处理装置在实现固体与液体过滤分离的基础上，通过固体滚动脱水以及热风干燥，大大降低了固体的含水量，改善了固液分离的效果。
处理装置

[发明专利]抗红外膜及其制备方法、显示器-CN202211102751.5在审
发明人：金闯;金文祥;耿龙飞;蒋晓明 -专利权人：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司;太仓斯迪克新材料科技有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗红外膜及其制备方法、显示器，其中抗红外膜包括基材、硬化涂层和抗红外涂层，硬化涂层和抗红外涂层分别设置于基材的相背的两个表面；按质量份数计，抗红外涂层的制备原料包括如下组分：丙烯酸树脂15～40份；第一引发剂1～5份；金属氧化物10～30份；分散剂3～20份；第一有机溶剂10～40份。上述抗红外膜，涂层组分之间及各涂层之间协同作用，可使抗红外膜同时具有较高透光率和较好的抗红外性能。
红外及其制备方法显示器

[发明专利]研磨时间的修正方法、系统及隔离结构的制作方法-CN202211512915.1有效
发明人： 金文祥;胡亚东;彭萍;蔡富吉;程建秀 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨时间的修正方法、系统及隔离结构的制作方法。该研磨时间的修正方法及系统中，首先获取前道研磨平台研磨第一晶圆的第一研磨时间设定值、前道研磨平台研磨第二晶圆的第二研磨时间设定值以及第n个研磨平台研磨第二晶圆的研磨时间，然后计算第二研磨时间设定值与第一研磨时间设定值之差获得第一时间差，计算第n个研磨平台研磨第二晶圆的研磨时间与第二研磨时间设定值之差获得第二时间差，且根据前道研磨平台的预定去除厚度和当下研磨速率、以及第一和第二时间差，计算出前道研磨平台研磨第三晶圆的研磨时间设定值。如此可以实现研磨时间的自动修正且提高研磨设备的产能。隔离结构的制作方法包括研磨时间的修正方法。
研磨时间修正方法系统隔离结构制作方法

[发明专利]一种化学机械研磨方法及系统-CN202211512812.5有效
发明人： 金文祥;蔡富吉;彭萍;胡亚东;李阿龙 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种化学机械研磨方法及系统，属于半导体制造技术领域。所述研磨方法包括：提供一待研磨衬底；获取相似产品的研磨数据，包括研磨时间和衬底图案密度；依据所述研磨数据，获取目标研磨参数数据，所述目标研磨参数数据包括研磨时间与衬底图案密度的相关斜率和研磨修正因子；获取研磨速率数据，所述研磨速率数据包括当前研磨速率与研磨耗材初始研磨速率的倍数；依据所述目标研磨参数数据和所述研磨速率数据，获取目标研磨时间，所述目标研磨时间包括所述待研磨衬底在第一研磨平台或第二研磨平台上的研磨时间；依据所述目标研磨时间，对所述待研磨衬底进行研磨。本发明提供的一种化学机械研磨方法及系统，可提高衬底的研磨质量。
一种化学机械研磨方法系统

[实用新型]一种托架-CN202222610963.6有效
发明人： 金文祥;谭得地 -专利权人：芜湖瑞昌电气系统有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B65D25/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种托架，其技术方案要点是：包括限位板，所述限位板的顶面固定安装有若干个连接板，其中两个所述连接板为一组，所述限位板的两侧均开设有若干个第二限位孔，所述限位板的顶面四个拐角位置分别开设有第一限位孔，所述第一限位孔的内部活动套设有限位柱，所述分隔组件设置在每组所述连接板之间，用于分隔电缆，通过设置分隔槽，通过分隔槽从而对电缆进行分隔，让电缆在分隔槽外壁面运动时不易发生摩擦与错位，通过限位件从而使电缆在生产运输过程中可随意调节需要的高度，提高了使用效率，避免因电缆粗细而造成的局限性，减少电缆摩擦，同时也节省了大量人力，提高工作人员工作效率。
一种托架

[发明专利]一种基于数据质量的联邦学习方法及系统-CN202211638623.2在审
发明人：张剑飞;张婧;杨宏伟;冯欣;金文祥 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G06F18/22 文献下载
摘要：本发明公开一种基于数据质量的联邦学习方法及系统，涉及机器学习领域，该方法包括：根据各客户端的数据质量分数将多个客户端分为两个簇；对高质量簇中各客户端的本地模型参数进行平均得到高质量簇模型参数，对低质量簇中各客户端的本地模型参数采用全局个性化方法进行计算得到低质量簇模型参数；根据高质量簇模型参数和低质量簇模型参数得到全局模型；利用高质量簇模型更新高质量簇中各客户端的本地模型；利用低质量簇模型更新低质量簇中各客户端的本地模型，通过迭代重新对多个客户端进行分簇，直到连续两次迭代过程中分簇结果没有变动；重复上述步骤，直到当前全局模型的预测精度达到设定条件。本发明提高了全局模型的预测性能。
一种基于数据质量联邦学习方法系统

[实用新型]一种化学机械研磨装置-CN202222021080.1有效
发明人： 金文祥;李阿龙;沈毛振 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-08-02 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学机械研磨装置，包括：研磨头、研磨垫、研磨液供应单元和打磨装置；其中，研磨垫能够沿第一方向旋转；研磨头、打磨装置和研磨液供应单元沿第一方向顺序设置在研磨垫上方；研磨头面向研磨垫的一面设有一容纳部，容纳部用于放置晶圆以使晶圆和研磨垫抵接；打磨装置包括打磨盘和套设在打磨盘外部的刷环。本实用新型提供的化学机械研磨装置，通过将研磨头、打磨装置和研磨液供应单元沿第一方向顺序设置在研磨垫上方，利用打磨盘对残留物进行打磨并经由刷环带走，从而减少了研磨垫上的残留物，并由此提高了晶圆的产品良率。
一种化学机械研磨装置

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