“郭春付”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果49个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种基于椭偏仪的待测样件参数测量方法-CN202011233872.4有效
发明人：张传维;颜凡;李伟奇;陈军;郭春付 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种基于椭偏仪的待测样件参数测量方法，首先基于椭偏仪测量系统中的随机噪声满足高斯分布的特性，建立t分布模型；然后采集经待测样件反射的有限次光学周期光束，获得样件的光强谐波信号；再通过建立的t分布模型，消除光强谐波信号中含有的随机噪声，估算出样件反射的光强真值，进一步计算得到对应的傅里叶系数真值；最后依据特定物理模型等计算公式，求得到样件的厚度和光学常数等参数。本发明基于光强随机噪声满足高斯分布，通过统计学中的t分布理论，对采集到的光强进行数据处理，估算出光强真值，并进而估算出待测样件的参数，在不降低检测效率的同时，提高了椭偏仪检测系统的重复性精度。
一种基于椭偏仪样件参数测量方法

[发明专利]一种用于旋转器件型光谱椭偏仪系统的电机光谱仪同步方法-CN202011232895.3有效
发明人：张传维;史玉托;李伟奇;陈军;郭春付 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于旋转器件型光谱椭偏仪系统的电机光谱仪同步方法，首先设置光谱仪积分时间为t以及采集帧数为n*N1,进行光谱采集并保存；从中提取所有周期内所有帧数在波长点λ2的光谱数据，并绘制光谱曲线图，得到包含有N1条光谱曲线的曲线图1，并计算曲线图1中光谱曲线线宽D；所述在波长点λ2的光谱数据的特征为该波长点在不同周期内的变化趋势为上下震动；然后对所述光谱仪积分时间t进行调制，并绘制光谱曲线图，若无论增加或减小积分时间，调制后的光谱曲线图中光谱曲线线宽均大于调制前的光谱曲线线宽D，则光谱仪积分时间t即为最佳积分时间，此时电机与光谱仪同步。
一种用于旋转器件光谱椭偏仪系统电机光谱仪同步方法

[发明专利]一种光学测量数据分析方法、分析系统及电子设备-CN202210022621.4在审
发明人：石雅婷;郭春付;李伟奇;陶泽;张传维 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G06F30/23 文献下载
摘要：本发明提供的一种光学测量数据分析方法，包括：对多个检测样本进行光谱分析，获取每个检测样本的偏差指数和相关系数；设立光谱偏差指数参数和光谱相关系数参数，计算每个检测样本的光谱匹配度指标，使得每个检测样本的光谱匹配度指标均大于预设的光谱匹配度指标阈值；基于偏差指数参数和相关系数参数，对待测件进行光谱分析，计算待测件的光谱匹配度指标，判断待测件是否为正常件。本发明首创性的将偏差指数和相关系数都纳入光谱匹配度指标中，从而可同时从测量光谱与仿真光谱的绝对偏差和波峰及波谷对应情况两个方面对测量结果的可靠性进行评价，通过光谱匹配度指标判断待测件的光谱匹配度，提高光谱匹配度的准确性和鲁棒性。
一种光学测量数据分析方法系统电子设备

[发明专利]一种双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪系统控制方法-CN201911369716.8有效
发明人：李伟奇;蒲俊鹏;陈军;张传维;郭春付;刘世元 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G05D13/62 文献下载
摘要：本发明涉及一种双旋转补偿器穆勒矩阵椭偏仪系统控制方法，包括：步骤1、控制器同时输出驱动脉冲至第一电机与第二电机，将第一电机的编码器脉冲作为光谱仪的触发脉冲，并采集第一电机运转周期T、第二电机与第一电机的转速比m2；步骤2、采集校准时刻第一电机的编码器脉冲与第二电机的编码器脉冲的时间差t1，获取第一电机角速度ω、校准时刻第二补偿器的初始方位角CS2；步骤3、采集重启后第一电机的编码器脉冲与第二电机的编码器脉冲的时间差t2；计算出第一补偿器与第二补偿器的角度偏差Δα；步骤4、计算出重启后第二补偿器的初始方位角C′S2；步骤5、采集测量的当前时刻t，计算出第二补偿器方位角C'2。本发明不用在每次开机后均做校准，且降低了设备成本。
一种旋转补偿穆勒矩阵椭偏仪系统控制方法

[发明专利]一种光谱测量分析中快速傅里叶变换拟合的方法及装置-CN202111479092.2在审
发明人：李江辉;郭春付;石雅婷;李伟奇;张传维 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种光谱测量分析中快速傅里叶变换拟合的方法及装置，本发明通过获取待测产品的光谱数据，并对所述光谱数据进行预处理；然后对预处理后的光谱数据进行快速傅里叶变换FFT，得到第一频谱数据；最后根据待测产品的材料以及预估参数范围，从频谱数据库中获取预估参数范围内的待测产品对应的多个第二频谱数据，将第一频谱数据与多个第二频谱数据进行比对，取与第一频谱数据最为接近的一个第二频谱数据对应的初值进行拟合，拟合最优解对应的参数即为待求的待测产品对应的参数。本发明利用频谱MSE对初值容忍度更高的优点，用频谱去拟合参数，以降低对初值的要求。
一种光谱测量分析快速傅里叶变换拟合方法装置

[发明专利]一种基于椭偏仪的光谱匹配校准方法-CN202111466890.1在审
发明人：李伟奇;颜凡;陈军;石雅婷;郭春付;张传维 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种基于椭偏仪的光谱匹配校准方法，包括：基于参考检测系统测量标定样件的光学表征参数；获取标定样件在目标检测系统测量下的光强谐波信号，并基于所述光强谐波信号计算相应的测量傅里叶系数；基于目标检测系统的测量傅里叶系数与理论傅里叶系数，对目标检测系统的系统参数进行校正。本发明在不改变仪器物理状态下，通过光谱匹配校准方法让检测系统的参数自适应调整，在保证高精度和稳定性的前提下，实现了目标检测系统和参考检测系统的测量一致性，满足实际半导体工业生产需求。
一种基于椭偏仪光谱匹配校准方法

[发明专利]一种镜头宽光谱透过率测量装置和方法-CN202111487377.0在审
发明人：李伟奇;吴警政;杨康;徐铁虎;郭春付 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种镜头宽光谱透过率测量装置和方法，测量装置包括：光源光路、积分球和能量检测组件；待测镜头放置于光源光路和积分球之间，积分球和能量检测组件之间通过光纤连接；光源光路出射不同波段的光，并通过积分球收集后进入能量检测组件；能量检测组件分别测量未放入和放入待测镜头时入射光的能量值，对比两个测量值得到待测镜头的透过率；针对测试光束经过待测镜头后光束形态发生变化(由准直光变化为汇聚光束)，本发明利用积分球对进入其内的光束形态无高准直性要求的特性，在待测镜头和能量检测组件之间设置积分球来测试镜头的透过率，能够快速、准确地测出不同焦距镜头在紫外、可见、近红外波段的宽光谱范围内的透过率。
一种镜头光谱透过测量装置方法

[发明专利]一种含带宽光谱的光谱处理方法及椭偏测量方法-CN202111511446.7在审
发明人：石雅婷;李江辉;郭春付;龚朋;李伟奇;张传维 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明提供一种含带宽光谱的光谱处理方法，包括步骤：获取待测样件的椭偏光谱、反射光谱、入射光源的带宽以及光强分布节点数；基于光强分布节点数和入射光源的带宽对椭偏光谱和反射光谱做插值处理，得到新椭偏光谱和新反射光谱，并进一步得到新椭偏光谱向量；基于光强分布节点数获取光强分布节点的权重集，并根据权重集构造权重矩阵；基于权重矩阵获取权重逆矩阵；基于权重逆矩阵和新椭偏光谱向量获取无带宽椭偏光谱。本发明根据光源的带宽，利用反卷积法从包含带宽因素的实际测量光谱中计算出不含带宽因素的理想测量光谱，用理想测量光谱代替实际测量光谱进行分析，可有效避免物理模型中对带宽进行耗时的积分运算，可极大提高测量光谱分析效率。
一种带宽光谱处理方法测量方法

[发明专利]一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置-CN202010275953.4有效
发明人：张传维;王鑫辉;李伟奇;郭春付;杨康 -专利权人：武汉颐光科技有限公司;华中科技大学
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及光学薄膜测量技术领域，特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置，包括：光路组件、载物组件及机架组件，载物组件设置在机架组件上；光路组件连接在机架组件上；光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置，光源可同时作为测量光源和照明光源，不仅能发出测量光束，同时能提供对测量区域标记的光束，不需要另外设置照明光源，可避免对测量光源带来杂散光，提高了测量结果的准确性。
一种局部测量显微成像装置

[发明专利]一种薄膜的测量方法-CN202010276441.X有效
发明人：张传维;王鑫辉;李伟奇;郭春付;杨康 -专利权人：武汉颐光科技有限公司;华中科技大学
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。
一种薄膜测量方法

[发明专利]一种复合消色差波片相位延迟量测量装置和方法-CN202110821602.3在审
发明人：李伟奇;吴警政;张传维;刘亮;郭春付;杨康 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明涉及一种复合消色差波片相位延迟量测量装置和方法，装置包括：沿设计光路依次设置的单波长光源、准直镜头、起偏器、检偏器、汇聚镜头以及能量检测组件；所述起偏器与检偏器之间设置有第一旋转机构；测量时，待测复合消色差波片与所述第一旋转机构固定连接，并与所述设计光路同光轴设置。本发明首先记录未放待测波片时出射能量值，然后将待测波片放置于透光轴方向相同的起偏器和检偏器中间，通过旋转待测波片测试出光能量的最大值与最小值，由此三个测量值推导得出待测波片相位延迟量与未放待测波片时出射光强、放置波片后出射能量最大值、最小值的对应关系，从而准确快速标定待测波片的相位延迟量。
一种复合色差相位延迟测量装置方法

[发明专利]一种单层薄膜临界厚度估值计算方法-CN201911421463.4有效
发明人：张传维;夏小荣;李伟奇;郭春付;刘世元 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种单层薄膜临界厚度估值计算方法，该方法包括：通过椭偏仪测量获取样件在不同薄膜厚度下的振幅比角Ψ和相位差角Δ光谱曲线；设定参与拟合的参数的优化搜索区间，利用残差评价函数衡量拟合误差，得到不同薄膜厚度对应的拟合结果；基于不同薄膜厚度对应的光谱，求解参与拟合的参数的雅克比矩阵及待测参数的协方差矩阵；根据不同薄膜厚度下的协方差矩阵值，提取不同薄膜厚度参数不确定度及参数间的相关系数数值以计算单层光学薄膜及半导体薄膜的临界厚度。通过该方案解决了现有技术难以准确计算单层薄膜临界厚度的问题，可以准确可靠地评估计算单层薄膜临界厚度值，保障光谱椭偏测量的准确性。
一种单层薄膜临界厚度计算方法

[发明专利]一种椭偏仪光强自动调节方法及装置-CN202011350631.8在审
发明人：马骏;李伟奇;史玉托;陈军;张传维;郭春付 -专利权人：上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种椭偏仪光强自动调节方法及装置，该方法包括：在设定的积分时间内，对采集点积分得到的光强谐波信号；根据设定的采样点数目，求解测量信号的傅里叶系数，当光强信号饱和或欠饱和时，则通过光强信号阈值判断调节探测器的积分时间，以使得光强信号采集帧数大于测量信号的傅里叶系数。该方案在不改变电机转速和改变机械硬件结构的情况下,通过调节积分时间实现光强快速调节，光强自动调节的响应速度快，并保证椭偏仪高信噪比测量。
一种椭偏仪光强自动调节方法装置

[发明专利]一种椭偏仪优化校准方法-CN202011233878.1在审
发明人：李伟奇;陈军;张传维;郭春付 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种椭偏仪优化校准方法，方法包括：步骤1，选用任意厚度的标准样品作为待测样品，对每台椭偏仪进行系统校准，得到椭偏仪的系统参数，使每台椭偏仪可以进行正常的测量；步骤2，使用每台椭偏仪测量特定厚度和光学常数的样品进行角度标定和优化，保证每台椭偏仪的实际测量角度和理论角度一致；步骤3，使用每台椭偏仪测量已知厚度和光学常数的标准样品进行波长校准，拟合得到每台椭偏仪的波长修正系数；步骤4，重新对每台仪器进行系统校准，将波长修正系数写入系统模型，更新系统参数，完成多台椭偏仪的优化校准。本发明实施例通过对多台椭偏仪分别进行优化校准，提高多台椭偏仪的测量结果一致性。
一种椭偏仪优化校准方法

[发明专利]穆勒矩阵椭偏仪的双旋转与高产率模式切换方法及系统-CN202011098802.2在审
发明人：李伟奇;张传维;颜凡;陈军;郭春付;刘世元 -专利权人：武汉颐光科技有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种穆勒矩阵椭偏仪的双旋转与高产率模式切换方法及系统，首先使双补偿器型穆勒矩阵椭偏仪工作在双旋转模式下，计算获得系统参数；然后关停起偏臂或检偏臂端电机，重新校准部分系统参数；最后更新系统参数，双补偿器型穆勒矩阵椭偏仪成功从双旋转模式切换为高产率模式。本发明通过将双补偿器型穆勒矩阵椭偏仪设定为双旋转模式获得大部分系统参数后，在不对仪器本身系统结构做任何改变的情况下，停掉起偏臂或检偏臂端低速电机，更新部分系统参数即可成功切换为高产率模式，通过让穆勒矩阵椭偏仪灵活切换为双旋转模式或高产率模式，使其根据实际工业需求满足高精度或高产率的测量要求。
穆勒矩阵椭偏仪旋转高产模式切换方法系统