[发明专利]一种薄膜的测量方法有效

专利信息
申请号: 202010276441.X 申请日: 2020-04-09
公开(公告)号: CN111426275B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 张传维;王鑫辉;李伟奇;郭春付;杨康 申请(专利权)人: 武汉颐光科技有限公司;华中科技大学
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 谢洋
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及光学测量技术领域,特别涉及一种薄膜的测量方法,通过将黑样件放在样品台上,测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱;将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量,利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱;测量标准样件时对应的黑样光强;找到局部测量区域后关闭照明光源,利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱;计算待测样件的实际测量反射率谱;假定待测样件的膜厚序列,通过计算获取相对应的反射率谱序列;通过表达拟合程度,拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法,可实现对样品的局部区域精确测量。
搜索关键词: 一种 薄膜 测量方法
【主权项】:
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