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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积设备和用于清洗沉积设备的方法-CN202210932235.9在审
发明人：李宰承;郑泰薰 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积设备和一种用于清洗沉积设备的方法，沉积设备能够清洗沉积在线性沉积源上的沉积副产物。沉积设备包含：衬底支撑件，衬底支撑于其上；线性沉积源，分别将源气体和反应气体喷射到衬底上；源气体供应单元，配置成将源气体供应到线性源气体喷嘴单元；反应气体供应单元，配置成将反应气体供应到线性反应气体喷嘴单元；清洗气体供应单元，配置成供应清洗气体以对至少一个喷嘴单元执行原位清洗；以及驱动单元，配置成移动衬底支撑件或线性沉积源。
沉积设备用于清洗方法

[发明专利]用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜-CN201811424354.3在审
发明人：李宰承;郑泰薰;黄栋义 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本公开涉及用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜，方法包括：将衬底支撑在衬底支撑件上；分别使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到衬底上，所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉的第一轴线方向并列安置，且同时，在与第一轴线方向交叉的第二轴线方向上移动衬底支撑件或线性沉积源，其中在移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤中，在第二轴线方向中的一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，且一个方向及另一方向上的移动距离不同。
气体喷嘴轴线方向钝化膜沉积衬底支撑件沉积源线性反应线性源衬底衬底支撑反应气体上移动源气体移动并列安置

[发明专利]用于沉积复合层的设备和其沉积方法-CN201710858882.9在审
发明人： 郑泰薰;李宰承 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本揭露涉及一种用于沉积复合层的设备，其包含腔室、衬底支撑件、驱动单元、喷淋头、源气体供应单元、第一反应气体供应单元和第二反应气体供应单元。衬底支撑件安置于腔室中以支撑其上沉积薄膜的衬底。驱动单元连接到衬底支撑件。喷淋头被配置以通过面向衬底的沉积表面的源气体喷嘴和反应气体喷嘴喷洒源气体和反应气体中的每一种以用于在衬底上沉积薄膜。源气体供应单元被配置以将源气体提供到源气体喷嘴。第一反应气体供应单元被配置以将第一反应气体提供到反应气体喷嘴。第二反应气体供应单元被配置以将第二反应气体提供到反应气体喷嘴。本揭露另涉及一种用于沉积复合层的方法。本揭露的用于沉积复合层的设备可改善复合层的沉积速度。
用于沉积复合设备方法

[发明专利]薄膜形成设备、保护膜形成设备以及薄膜形成方法-CN201610165204.X在审
发明人：李宰乘;西门瑄;具灿会;郑泰薰 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2016-03-22 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： H01L51/40 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜形成设备、保护膜形成设备以及薄膜形成方法。所述薄膜形成设备包含覆盖衬底和驱动单元的掩模组合件，驱动单元调整掩模组合件与衬底之间的间隔距离。此外，保持衬底和掩模部分的至少一部分彼此间隔开第一间隔距离，使得第一膜形成于衬底上并且以大于第一间隔距离的第二间隔距离形成第二膜。因此，可以容易地堆叠具有彼此不同的尺寸的膜。因此，不需要具有尺寸与彼此不同的膜的尺寸对应的开口的掩模部分。此外，当形成彼此不同的膜时，不需要衬底与掩模部分之间的对准。
薄膜形成设备保护膜以及方法

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共 4 条

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