专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]承载装置及半导体检测设备-CN202110325987.4有效
  • 陈鲁;邓曾红;黄有为;张嵩 - 深圳中科飞测科技股份有限公司
  • 2021-03-26 - 2023-10-03 - H01L21/683
  • 本申请提供一种承载装置及半导体检测设备。承载装置包括基板,基板上设有气孔、泄气孔和排气槽,所述气孔用于为工件提供正压和/或负压,以承载所述工件,泄气孔设置于基板的中心区域,用于排出基板的上表面与工件之间的部分气体,至少部分排气槽用于将基板的中心区域的气体导引至基板的边缘区域。本申请的承载装置及半导体检测设备中,中心区域的泄气孔排出基板上表面与工件之间的部分气体,排气槽将基板的中心区域的气体导引至边缘区域,从而减小中心区域和边缘区域的气压差距,最大程度防止悬浮于承载装置上的工件发生形变,保证工件具有良好的平面度。
  • 承载装置半导体检测设备
  • [发明专利]漏液检测装置及半导体清洗设备-CN202210903220.X在审
  • 邓曾红;马宏帅 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2022-07-29 - 2022-11-04 - G01M3/04
  • 本发明提供一种漏液检测装置及半导体清洗设备;其中,漏液检测装置设置在半导体清洗设备的外槽和内槽之间,其包括:液位传感器、外壳和供气组件;其中,液位传感器设置于外壳的内腔中;外壳上开设有分别与内腔和外槽连通的气液通道;气液通道用于在外槽内部液面达到预设阈值高度时,供外槽内部液体流入内腔中;供气组件与内腔连通,用于向内腔中输送阻隔气体,以使内腔内部气压达到预设阻隔压力;其中,预设阻隔压力大于外部环境气压,且小于外槽内的液面所述预设阈值高度时对内腔的压力,从而在实现对液位传感器的有效密封的同时,保证及时对液面进行监测,减少漏液传感器被误触发问题的发生。
  • 检测装置半导体清洗设备
  • [发明专利]光学设备及其工作方法-CN202010886744.3有效
  • 陈鲁;邓曾红;黄有为;张嵩 - 深圳中科飞测科技股份有限公司
  • 2020-08-28 - 2022-10-18 - B01D46/62
  • 本发明提供一种光学设备及其工作方法,其中,所述光学设备包括:供气装置,用于提供清洁气体;分流单元,用于将所述清洁气体分为第一清洁气体和第二清洁气体;第一过滤装置,用于对所述第一清洁气体进行第一过滤处理,所述第一过滤装置包括酸碱过滤器,所述酸碱过滤器用于去除所述第一清洁气体中的酸性和/或碱性气体,形成第三清洁气体;与所述第三清洁气体连通的光学腔室,所述光学腔室内用于形成光路;与第二清洁气体连通的气动装置,所述第二清洁气体用于为气动装置提供力的作用。所述光学设备能够在减少光学元件污染的条件下,降低成本。
  • 光学设备及其工作方法
  • [发明专利]一种承载装置及检测设备-CN202011114088.1在审
  • 陈鲁;邓曾红;黄有为 - 深圳中科飞测科技股份有限公司
  • 2020-10-19 - 2022-04-22 - H01L21/683
  • 本发明提供一种承载装置,该承载装置包括承载盘,该承载盘用于承载待承载对象,该承载盘具有承载面,且承载盘设有排气孔,排气孔与外界连通,该排气孔用于排除承载面与待承载对象之间的至少部分气体;该排气孔设置在承载面的中心区域,且排气孔在承载面的正投影位于承载面的中心区域内。通过以上设置,可以有效排出承载面与待承载对象之间的中心区域的气体,使得中心区域与其他区域尤其是边缘区域的气压保持一致,防止被承载对象发生形变。
  • 一种承载装置检测设备
  • [实用新型]承载装置及检测设备-CN202120613003.8有效
  • 邓曾红;黄有为;魏林鹏;陈鲁;张嵩 - 深圳中科飞测科技股份有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-12-28 - G01R31/26
  • 本实用新型公开了一种承载装置及检测设备,所述晶圆承载装置包括承载本体与多个限位件,所述多个限位件沿所述承载本体的周侧设置,所述限位件包括支撑柱与限位凸台,所述限位凸台用于避免晶圆在所述晶圆承载装置上发生移动,所述限位凸台包括第一限位面与第二限位面,所述第一限位面与所述第二限位面的夹角为第一夹角,所述第一夹角为锐角。本申请避免由于激光照射在所述限位件上后发生反射,在晶圆的待测面形成光斑,影响晶圆的检测结果的问题。
  • 承载装置检测设备
  • [发明专利]工艺腔室和半导体处理设备-CN201811456559.X在审
  • 邓曾红 - 东泰高科装备科技有限公司
  • 2018-11-30 - 2020-06-09 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种工艺腔室和半导体处理设备。包括腔室本体;腔室上盖,上盖设在腔室本体上;喷淋头,吊装在腔室上盖下侧,且喷淋头上设置有若干个匀流接口;若干个外转接管组件,每个外转接管组件对应至少一个匀流接口,外转接管组件的第一端用于与供给箱密封连接,外转接管组件的第二端穿过腔室上盖并伸入腔室本体内与对应的匀流接口密封连接;并且,外转接管组件能够相对腔室本体移动和/或转动,以调整外转接管组件的第二端在腔室本体内的位置。当匀流接口出现误差时,可以调整外转接管组件的第二端在腔室本体内的位置,从而可以确保各外转接管组件可靠地与对应的匀流接口密封连接。
  • 工艺半导体处理设备
  • [实用新型]一种相位调整装置-CN201921141114.2有效
  • 邓曾红 - 东泰高科装备科技有限公司
  • 2019-07-19 - 2020-05-05 - F16H7/06
  • 本实用新型涉及相位调整技术领域,提供一种相位调整装置,包括箱体、传动轮组件、调整组件、过渡轮组件和张紧轮组件,所述传动轮组件安装在所述箱体的第一侧,所述调整组件安装在所述箱体的第二侧,所述过渡轮组件和所述张紧轮组件均安装在所述箱体内,所述调整组件与所述过渡轮组件连接,所述过渡轮组件、所述传动轮组件和所述张紧轮组件通过传动件传动连接。通过将传动轮组件、调整组件、过渡轮组件和张紧轮组件组装在箱体中,构成独立装置,实现了模块化设计,提高适用性,同时方便对传动轮组件、调整组件、过渡轮组件和张紧轮组件的润滑,结构紧凑,传动性能高,相位调整精度高。
  • 一种相位调整装置
  • [发明专利]真空室气体引入系统-CN201910072353.5在审
  • 邓曾红 - 东泰高科装备科技有限公司
  • 2019-01-25 - 2020-04-28 - F17D1/02
  • 本发明涉及真空室气体引入技术领域,公开了一种真空室气体引入系统,包括真空室侧壁、封盖和转接机构,所述转接机构包括转接本体,所述转接本体内部设有变向通道,所述变向通道的第一端口与所述真空室侧壁密封连接,所述变向通道的第二端口与所述封盖的内侧壁密封连接,所述第一端口与设置在所述真空室侧壁外侧的外部引入接头对接,所述第二端口与设置在所述封盖外侧的外部引出接头对接,所述外部引出接头与转接管路的一端连接,所述转接管路的另一端与所述腔体连通。简化了维护流程,缩短了维护时间,减小了维护工作量,提高维护效率,降低了气路泄露风险,同时可以实现多路气体的并行引入。
  • 真空气体引入系统

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