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[发明专利]缺陷去除装置、缺陷去除方法、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202280016179.2在审
发明人：大津晓彦;吉留正洋;河田幸寿;西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种能够精确地去除半导体基板的缺陷的缺陷去除装置、缺陷去除方法及图案形成方法、以及使用去除了表面上的缺陷的半导体基板的图案形成方法及电子器件的制造方法。缺陷去除装置具有：表面缺陷测定部，具有射出用于进行半导体基板上的缺陷检测的入射光的第1光源部及根据通过入射光因半导体基板上的缺陷而反射或散射而辐射的辐射光来检测半导体基板上的缺陷的检测部；去除部，根据半导体基板上的缺陷的位置信息，向半导体基板上照射激光而去除缺陷；及对准部，调整入射光和激光的光轴，入射光和激光通过对准部调整光轴并射出到半导体基板上。
缺陷去除装置方法图案形成电子器件制造

[发明专利]分析装置及分析方法-CN202180091761.0在审
发明人：大津晓彦;吉留正洋;河田幸寿;西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明提供一种能够分析半导体基板的表面上的更微小的缺陷的分析装置及分析方法。分析装置具有：表面缺陷测定部，测定半导体基板的表面上的缺陷的有无，关于半导体基板的表面上的缺陷，得到半导体基板的表面上的位置信息；及分析部，根据缺陷在半导体基板的表面上的位置信息对半导体基板的表面上的缺陷照射激光，将通过照射而得到的分析试样利用载气回收并进行电感耦合等离子体质谱分析。
分析装置方法

[发明专利]半导体器件的制造方法、半导体制造装置的清洗方法及清洗液的清洁度的测量方法-CN202180053293.8在审
发明人：大津晓彦;河田幸寿;室祐继;吉留正洋;上村哲也;西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种更简便地管理包含有机溶剂的药液的纯度的半导体器件的制造方法及半导体制造装置的清洗方法以及清洗液的清洁度的更简便的测量方法。半导体器件的制造方法具有：工序1，使振子与以有机溶剂为主成分的药液接触，以获得由于药液的接触导致的振子的共振频率的变化量；工序2，确认药液的共振频率的变化量是否包含在基于预先设定的药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内；及工序3，将在工序2中确认的药液使用于半导体器件的制造中。
半导体器件制造方法半导体装置清洗清洁测量方法

[发明专利]药液的检查方法、半导体器件的制造方法以及抗蚀剂组合物的检查方法-CN202211081279.1在审
发明人：大津晓彦;吉留正洋;河田幸寿;西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-09-05 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G01N27/626 文献下载
摘要：本发明提供一种能够分析药液中的微小异物的药液的检查方法、药液的制造方法、药液的管理方法、半导体器件的制造方法、能够分析抗蚀剂组合物中的微小异物的抗蚀剂组合物的检查方法、抗蚀剂组合物的制造方法、抗蚀剂组合物的管理方法、以及能够管理半导体制造装置中的微小异物的半导体制造装置的污染状态确认方法。药液的检查方法包括：准备药液的工序1X；将药液涂布在半导体基板上的工序2X；以及工序3X，测定半导体基板的表面上有无缺陷，获取半导体基板的表面上的缺陷在半导体基板上的位置信息，基于位置信息对半导体基板的表面上的缺陷照射激光，利用载气回收通过照射得到的分析试样并进行电感耦合等离子体质谱分析。
药液检查方法半导体器件制造以及抗蚀剂组合

[发明专利]平版印刷版原版、平版印刷版的制版方法及印刷方法-CN201680011261.0有效
发明人： 西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： B41N1/14 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种维持边缘污染防止性能，并且抑制了随时间的经过而引起的物质的渗漏或转印的平版印刷版原版、平版印刷版的制版方法及使用了上述平版印刷版的印刷方法。本发明的平版印刷版原版在支撑体上具有图像记录层，该平版印刷版原版的特征在于，具有下述i～iv中任一个所述的层排列，且在上述层排列的特定位置具有亲水化剂层，该亲水化剂层在上述平版印刷版原版的端部至1cm以内的区域含有亲水化剂，上述图像记录层包含红外线吸收剂和特定自由基聚合性化合物，其中，i：依次具有支撑体层、图像记录层的形态，ii：依次具有支撑体层、底涂层及图像记录层的形态，iii：依次具有支撑体层、图像记录层及保护层的形态，iv：依次具有支撑体层、底涂层、图像记录层及保护层的形态。
平版印刷原版制版方法印刷

[发明专利]平版印刷版原版及其制版方法-CN201480039788.5有效
发明人： 西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-06-20 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： B41N1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种平版印刷版原版，通过所述平版印刷版原版提供可见度优异且长期保存平版印刷版原版后也仍具有优异的机上显影性且保存稳定性优异的热熔合型的平版印刷版原版，所述平版印刷版原版在支撑体上具有含有(A)热塑性微粒聚合物、(B)红外线吸收染料及(C)聚甘油化合物的图像记录层，其中，红外线吸收染料为由通式(I)表示的红外线吸收染料，聚甘油化合物为具有三个以上由通式(1)及通式(2)表示的结构单元中的任一种的化合物。通式(I)中，R1表示由通式(Ia)表示的基团。R2及R3各自独立地表示氢原子或烷基，或表示R2及R3相互连结而形成环状结构所需的原子组。Ar1及Ar2各自独立地表示用于形成苯环或萘环所需的原子组。Y1及Y2各自独立地表示硫原子或二烷基亚甲基。R4及R5各自独立地表示烷基。R6、R7、R8及R9各自独立地表示氢原子或烷基。Za表示中和电荷的抗衡离子。通式(Ia)中，R10表示氢原子、脂肪族烃基或(杂)芳基，或表示与Y连结而形成环状结构所需的原子组。L表示单键或2价连结基。X表示‑CO‑、‑SO2‑或‑SO‑。Y表示‑R11a、‑OR11b、‑NR12R13或‑CF3。R11a表示氢原子、脂肪族烃基或(杂)芳基。R11b表示脂肪族烃基或(杂)芳基。R12及R13各自独立地表示氢原子、脂肪族烃基或(杂)芳基，或表示R12及R13相互连结而形成环状结构所需的原子组。通式(1)及通式(2)中，A表示氢原子、碳原子数1～4的烷基或碳原子数2～5的烷基羰基。；‑NR10‑L‑X‑Y通式(Ia)；
平版印刷版原版氢原子烷基脂肪族烃基原子组芳基红外线吸收染料环状结构聚甘油化合物连结碳原子数保存稳定性热塑性微粒图像记录层长期保存抗衡离子烷基羰基中和电荷聚合物二烷基连结基硫原子热熔合显影性亚甲基支撑体苯环单键制版萘环

[发明专利]墨水组成物、墨水组及图像形成方法-CN201180067579.8无效
发明人： 西塔亮;大石康史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-10-17 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：一种墨水组成物，其含有：颜料，选自由自分散型颜料及颜料的表面的至少一部分由水不溶性树脂包覆而成的树脂包覆颜料所构成的群组；相对于组成物总重量的比率为0.01wt％以上且不足1.00wt％的选自聚乙烯吡咯啶酮、聚乙烯醇、及聚乙二醇的至少1种；非水溶性或水难溶性的树脂粒子，非水溶性或水难溶性的蜡粒子；水。
墨水组成图像形成方法

[发明专利]油墨组和成像方法-CN201210177246.7有效
发明人：荒井拓也;西塔亮;武田玲 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种油墨组，其可以形成不平得到抑制的图像。所述油墨组含有油墨组合物和处理液，其中所述油墨组合物含有树脂颗粒和颜料，所述处理液含有包含下述通式(I)所示化合物的有机酸性化合物，CnH2n+2-m(COOH)m …通式(I)[通式(I)中，n表示2以上的整数，m表示3以上的整数]。本发明还涉及使用了上述油墨组的成像方法。
油墨成像方法

[发明专利]油墨组合物、油墨组以及成像方法-CN201210177248.6有效
发明人： 西塔亮;大元诚;稻垣厚志;配岛章光 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C09D11/10 文献下载
摘要：本发明公开了油墨组合物，其包含颜料、自分散性树脂颗粒、至少两种非离子型表面活性剂、水溶性有机溶剂以及水，所述自分散性树脂颗粒包含亲水性构成单元和疏水性构成单元，所述至少两种非离子型表面活性剂包含：(a)HLB为15至19的非离子型表面活性剂以及(b)HLB为10至小于15的非离子型表面活性剂。本发明还公开了油墨组和成像方法。
油墨组合以及成像方法

[发明专利]油墨组和成像方法-CN201210176930.3有效
发明人：武田玲;深川玲子;荒井拓也;西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种油墨组，其至少具有：包含颜料的油墨组合物；以及至少包含有机酸性化合物和包含下式(A)代表的结构单元的聚合物的处理液体。在式(A)中R^a1代表氢原子或甲基；L^a1代表直接键、-COO-或-CONR^a3-，其中R^a3代表氢原子或具有1至30个碳原子的单价基团，其可包含选自醚键、硫醚键和酯键中的至少一种；L^a2代表直接键或具有1至30个碳原子的二价连接基团，其可包含选自醚键、硫醚键和酯键中的至少一种；并且A^a代表离子基团。式(A)。
油墨成像方法

[发明专利]油墨组合物、油墨组及成像方法-CN201210020271.4有效
发明人： 西塔亮;大石康史 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-01-29 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明公开一种油墨组合物，其含有：碳黑；选自由青色颜料和品红色颜料组成的组中的至少一者；占所述组合物总量的大于或等于0.01质量％而小于1.00质量％的选自由聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇和聚乙二醇组成的组中的至少一者；非水溶性或基本上非水溶性的树脂颗粒、非水溶性或基本上非水溶性的蜡颗粒、或它们的任意混合物；以及水。本发明还公开了油墨组和成像方法。
油墨组合成像方法

[发明专利]墨水组合物，墨水组和图像形成方法-CN201110216995.1有效
发明人： 西塔亮 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-07-29 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C09D11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种墨水组合物，墨水组和图像形成方法。所述墨水组合物包含：第一颜料粒子，所述第一颜料粒子选自自分散性炭黑和至少一部分被覆有水不溶性树脂的炭黑，所述第一颜料粒子的量相对于所述墨水组合物的总质量为1质量％至5质量％；第二颜料粒子，所述第二颜料粒子由至少一部分被覆有水不溶性树脂的青色颜料形成，所述第二颜料粒子相对于所述第一颜料粒子的量为1质量％至50质量％；水不溶性树脂粒子A；和水。
墨水组合图像形成方法

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