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- [发明专利]三硅基多羧酸有机硅化合物及其合成方法和应用-CN202210597054.5在审
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李良春;袁宝玲
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同济大学
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2022-05-30
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2022-08-30
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C07F7/08
- 本发明提供了一种三硅基多羧酸有机硅化合物及其合成方法和应用，该三硅基多羧酸有机硅化合物为有机硅化合物mMTSA、有机硅化合物pMLSA、有机硅化合物STSA、有机硅化合物STSDA、有机硅化合物TSDA和有机硅化合物TLDA中的任意一种，其为具有Si‑Si键和芳香基的三硅基功能基团有机硅化合物，且其还具有二或四羧酸结构。本发明还将该三硅基多羧酸有机硅化合物与金属盐Zn(NO3)2·6H2O、Cu(NO3)2·5H2O、Cd(NO3)2·4H2O和In(NO3)2·6H2O采用溶剂热的方法制备SiMOFs。与现有技术相比，本发明提供的三硅基多羧酸有机硅化合物，具有更优异的荧光性质、疏水性以及参与配位的能力，将其应用于制备SiMOFs，可以提升SiMOFs的热稳定性、疏水性以及荧光性质，且该三硅基多羧酸有机硅化合物的多羧酸结构增大了其在制备SiMOFs中的应用范围。
- 基多羧酸有机硅化合物及其合成方法应用
- [发明专利]一种硅芴基共轭多孔聚合物及其制备方法-CN202010516666.8有效
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李良春;孙成美;苟高章;袁宝玲
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同济大学
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2020-06-09
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2022-06-21
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C08G61/12
- 本发明属于有机荧光多孔材料领域，提供了一种硅芴基共轭多孔聚合物及其制备方法，用3,6‑二甲氧基‑2,7‑二乙炔基‑9,9‑二甲基硅芴作为单体和1,3,5‑三碘苯作为单体，通过Sonogashira偶联反应在75℃～85℃下发生共聚，得到硅芴基共轭多孔聚合物。该聚合物具有三维结构，有球状和管状两种形态，具有中空结构，荧光强度会随着紫外灯(365nm)照射时间的延长而增强，具有光诱导荧光增强效应，具有很好的抗光漂白性。该聚合物将会被广泛用于荧光分析、跟踪检测、生物成像等方面。同时制备方法简单，合成路线短，操作十分方便，原料制备技术成熟，产率高，对于开发同类荧光染料或有机荧光聚合物具有重要指导及借鉴作用。
- 一种硅芴基共轭多孔聚合物及其制备方法
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