专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]保护装置以及相关制作方法-CN201310553012.2有效
  • 蔡·伊安·吉尔;洪章洙;詹柔英;威廉·G·柯登 - 飞思卡尔半导体公司
  • 2013-11-08 - 2018-02-06 - H01L27/02
  • 提供了保护装置结构和相关的制作方法。示例保护装置包括第一双极结型晶体管、第二双极结型晶体管、第一齐纳二极管、第二齐纳二极管。所述第一双极结型晶体管的集电极电耦合。所述第一齐纳二极管的阴极耦合于所述第一双极结型晶体管的集电极以及所述第一齐纳二极管的阳极耦合于所述第一双极结型晶体管的基极。所述第二齐纳二极管的阴极耦合于所述第二双极结型晶体管的集电极以及所述第二齐纳二极管的阳极耦合于所述第二双极结型晶体管的基极。在示例实施例中,所述第一双极结型晶体管的基极和发射极在第一接口处耦合以及所述第二双极结型晶体管的基极和发射极在第二接口处耦合。
  • 保护装置以及相关制作方法
  • [发明专利]掩埋式非对称结ESD保护装置-CN200980129054.5有效
  • 蔡·伊安·吉尔;洪章洙;詹姆斯·D·惠特菲尔德;詹柔英 - 飞思卡尔半导体公司
  • 2009-05-11 - 2011-06-22 - H01L27/04
  • 一种改进的横向双极静电放电(ESD)保护装置(40),包括:半导体(SC)衬底(42),覆盖外延SC层(44),在SC层中横向间隔开第一距离(52)的发射极-集电极区域(48,50),与发射极区域(48)相邻、朝向集电极区域(50)横向延伸并与集电极区域(50)相隔基极-集电极间距(56)的基极区域(54),其中选择基极-集电极间距(56)以设置所期望的触发电压Vt1。通过提供在发射极区域(48)之下、欧姆地耦合到发射极区域(48)的掩埋层区域(49),但在集电极区域(50)下方没有提供可比较的掩埋层区域(51),获得一种非对称的结构,其DC触发电压(Vt1DC)和瞬时触发电压(Vt1TR)紧密匹配,使得|Vt1TR-Vt1DC|~0。该紧密匹配增加了设计裕量并提供了更高性能的ESD装置(40),其对工艺变化不敏感,从而提高了制造产量并降低了成本。
  • 掩埋对称esd保护装置
  • [发明专利]多电压静电放电保护-CN200980115772.7有效
  • 詹姆斯·D·惠特菲尔德;蔡·伊安·吉尔;阿比亚特·戈亚尔;詹柔英 - 飞思卡尔半导体公司
  • 2009-02-20 - 2011-04-13 - H01L27/04
  • 本发明涉及一种静电放电(ESD)箝位器(41,51,61,71,81,91),其跨接在被保护的半导体SC设备或IC(24)的输入-输出(I/O)端子(22)和公共(GND)(23)端子之间,包括具有源极-漏极(26,27)的ESD晶体管(ESDT)(25),其连接在GND(23)和I/O(22)之间,连接在栅极(28)和源极(26)之间的第一电阻(30),以及连接在ESDT体(29)和源极(26)之间的第二电阻(32)。与电阻(30,32)并联的是控制晶体管(35,35’),其栅极(38,38’)连接到一个或多个偏压电源Vb,Vb’。设备或IC(24)的主电源干线(Vdd)为用于Vb,Vb’的便利电压源。当在运输、操作、设备组装等期间Vdd关断时,ESD触发电压Vt1为低,从而在高ESD危险的情况下提供最大的ESD保护。当Vdd被激活,Vt1升高到一个足够大的值以能够避免干扰正常电路操作同时仍然执行ESD事件保护。在正常操作期间通过ESDT(25)的寄生漏电大幅减小。
  • 电压静电放电保护

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top