专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]外延腔室上的双辅助掺杂剂入口-CN201580031775.8在审
  • 郑锦;董友群 - 应用材料公司
  • 2015-05-22 - 2017-05-10 - H01L21/205
  • 本发明提供具有双重或多重掺杂剂入口以用于处理半导体基板的方法与装置,这些入口形成于外延腔室的不同位置处且被构造成于沉积期间朝向基板的不同位置供应掺杂剂气体。一个实施方式中,耦接外延沉积腔室而构造的气体递送系统包括气体导管,具有第一端与第二端,该气体导管被构造成设置于外延沉积腔室中,该第一端耦接气体面板,该第二端分支而出以包括辅助内掺杂剂入口与辅助外掺杂剂入口,其中该辅助内掺杂剂入口与该辅助外掺杂剂入口在该外延沉积腔室中实施时独立地受到控制。
  • 外延腔室上辅助掺杂入口

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